恭喜ASML荷蘭有限公司O·F·J·努德曼獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜ASML荷蘭有限公司申請的專利用于控制光刻系統(tǒng)的方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN113614645B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-01發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202080022989.X,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G03F7/20;該發(fā)明授權(quán)用于控制光刻系統(tǒng)的方法是由O·F·J·努德曼;安東尼厄斯·西奧多勒斯·威廉慕斯·肯彭;簡·伯納德·普萊徹爾墨斯·范斯庫特;M·A·范登布林克設(shè)計研發(fā)完成,并于2020-02-20向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本用于控制光刻系統(tǒng)的方法在說明書摘要公布了:一種光刻系統(tǒng),包括輻射源和光刻設(shè)備。輻射源將輻射提供至光刻設(shè)備。光刻設(shè)備使用輻射將圖案成像至位于半導(dǎo)體襯底上的光致抗蝕劑層上的多個目標(biāo)區(qū)域上。成像需要預(yù)定劑量的輻射。該系統(tǒng)被控制為根據(jù)預(yù)定劑量的量值來設(shè)定輻射的功率水平。
本發(fā)明授權(quán)用于控制光刻系統(tǒng)的方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種控制包括輻射源和光刻設(shè)備的光刻系統(tǒng)的方法,其中:所述輻射源被配置為將輻射提供至所述光刻設(shè)備;所述光刻設(shè)備被配置為使用所述輻射將圖案成像至位于半導(dǎo)體襯底上的光致抗蝕劑層上的多個目標(biāo)區(qū)域上;所述成像需要預(yù)定劑量的輻射;所述方法包括:根據(jù)所述預(yù)定劑量的量值來設(shè)定所述輻射的功率水平;并且其中,用于在所述多個目標(biāo)區(qū)域上進(jìn)行所述成像的總時間長度包括:第一時間長度,所述第一時間長度用于在所述半導(dǎo)體襯底的第一通過過程中在所述多個目標(biāo)區(qū)域上進(jìn)行所述成像;以及第二時間長度,所述第二時間長度用于在所述半導(dǎo)體襯底的第二通過過程中在所述多個目標(biāo)區(qū)域中的一個或多個特定目標(biāo)區(qū)域上進(jìn)行所述成像,所述一個或多個特定目標(biāo)區(qū)域未能在所述第一通過過程中接收所述預(yù)定劑量;并且其中,所述方法包括:設(shè)定所述輻射的功率水平,以使所述總時間長度保持為基本上處于或接近最小值。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人ASML荷蘭有限公司,其通訊地址為:荷蘭維德霍溫;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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