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龍圖騰網(wǎng)恭喜國立大學(xué)法人香川大學(xué)申請的專利分光測定裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN117957427B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202280062448.9，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G01J3/453；該發(fā)明授權(quán)分光測定裝置是由石丸伊知郎設(shè)計研發(fā)完成，并于2022-09-01向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本分光測定裝置在說明書摘要公布了：分光測定裝置1具備：準直光學(xué)系統(tǒng)15，其對來自試樣S的測定點a的物體光進行準直；光檢測器21，其具有在規(guī)定的方向上排列有多個像素的受光面；共軛面成像光學(xué)系統(tǒng)11，其設(shè)置在試樣與準直光學(xué)系統(tǒng)之間，用于形成與該試樣的表面在光學(xué)上共軛的面；振幅型衍射光柵13，其配置于所述共軛的面，所述振幅型衍射光柵13是通過在遮光構(gòu)件設(shè)置多個開口而得到的，該遮光構(gòu)件的光入射面或光出射面由物體光的波長范圍下的遮光率高于硅的遮光率的材料形成；光路長度差賦予光學(xué)系統(tǒng)16，其將準直后的物體光分割為第一光束和第二光束并賦予光路長度差；以及干涉光學(xué)系統(tǒng)17，其使被賦予了光路長度差的第一光束與第二光束干涉，來沿著所述規(guī)定的方向在所述受光面形成干涉像。

本發(fā)明授權(quán)分光測定裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種分光測定裝置，其特征在于，具備：準直光學(xué)系統(tǒng)，其對從試樣的表面的測定點發(fā)出的物體光進行準直；光檢測器，其具有在規(guī)定的方向上排列有多個像素的受光面；共軛面成像光學(xué)系統(tǒng)，其設(shè)置在所述試樣與所述準直光學(xué)系統(tǒng)之間，用于在與該準直光學(xué)系統(tǒng)之間形成與該試樣的表面在光學(xué)上共軛的面；振幅型衍射光柵，其配置于所述共軛的面，所述振幅型衍射光柵是通過在遮光構(gòu)件沿與所述規(guī)定的方向?qū)?yīng)的方向設(shè)置多個開口而得到的，其中，該遮光構(gòu)件的射出所述物體光的光出射面由輻射率小于硅的輻射率的材料構(gòu)成、和或所述光出射面由所述物體光的波長范圍下的光的反射率高于硅的反射率的材料構(gòu)成并且對所述光出射面實施了防反射加工；光路長度差賦予光學(xué)系統(tǒng)，其將由所述準直光學(xué)系統(tǒng)準直后的物體光分割成第一光束和第二光束，并在該第一光束與該第二光束之間賦予光路長度差；以及干涉光學(xué)系統(tǒng)，其使由所述光路長度差賦予光學(xué)系統(tǒng)賦予了光路長度差的所述第一光束與所述第二光束干涉，來沿著所述規(guī)定的方向在所述受光面形成干涉像。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人國立大學(xué)法人香川大學(xué)，其通訊地址為：日本香川縣；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。