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龍圖騰網恭喜之江實驗室申請的專利一種激光直寫裝置和激光直寫方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119087755B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-25發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411571188.5，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權一種激光直寫裝置和激光直寫方法是由蘇晨怡;楊順華;楊臻垚;張嘉晨;施鈞輝設計研發完成，并于2024-11-06向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種激光直寫裝置和激光直寫方法在說明書摘要公布了：本發明涉及一種激光直寫裝置和激光直寫方法，在光路傳播方向上依次包括第一光源、光學衍射元件、多通道聲光調制器、第一套筒透鏡、第一物鏡和第一刻寫平臺；所述光學衍射元件用于將所述第一光源發出的光束分成至少兩束第一子光束，每束所述第一子光束的直徑相等或者基本相等，并且所述第一子光束的直徑小于所述第一物鏡的入瞳孔徑，所述多通道聲光調制器用于調節每束所述第一子光束的光強。

本發明授權一種激光直寫裝置和激光直寫方法在權利要求書中公布了：1.一種激光直寫方法，其特征在于，基于激光直寫裝置，所述激光直寫裝置在光路傳播方向上依次包括第一光源（1）、光學衍射元件（2）、多通道聲光調制器（4）、第一套筒透鏡（5）、第一物鏡（6）和第一刻寫平臺（7）；所述光學衍射元件（2）用于將所述第一光源（1）發出的光束分成至少兩束第一子光束，每束所述第一子光束的直徑相等或者基本相等，并且所述第一子光束的直徑小于所述第一物鏡（6）的入瞳孔徑，所述多通道聲光調制器（4）用于調節每束所述第一子光束的光強；所述激光直寫方法包括：在制備納米柱之前，確定納米柱的設計高度H；至少基于H，確定所述第一子光束的目標光強；所述多通道聲光調制器（4）對所述第一子光束的實際光強進行調節，以使所述第一子光束的實際光強匹配于目標光強；使用經過光強調節后的所述第一子光束在光刻膠對應位置處進行曝光，以獲得所述納米柱；所述激光直寫方法還包括：獲取所述第一光源（1）的光束質量因子M2、所述第一光源（1）對應發射光波長λ、所述第一物鏡（6）的等效焦距f以及所述第一子光束的設計焦深L；至少基于M2、λ、f、L確定所述第一子光束的目標直徑D；所述光學衍射元件（2）對所述第一子光束的實際直徑進行調節，以使所述第一子光束的實際直徑匹配目標直徑D；所述激光直寫方法還包括：獲取光刻膠的聚合閾值S；至少基于H、f、L和S確定所述第一子光束的目標光強和目標曝光時間t；所述第一光源（1）控制所述第一子光束的實際曝光時間，以使所述第一子光束的實際曝光時間匹配目標曝光時間t；所述激光直寫方法還包括：在制備納米柱之前，確定納米柱的設計半徑R；至少還基于R確定所述第一子光束的目標光強和目標曝光時間；所述激光直寫方法還包括：在制備納米柱之前，確定納米柱的設計相位調制量φ、光刻膠固化后的折射率nref和空氣折射率n0；至少基于φ、λ、D、H確定相鄰兩個納米柱之間的目標間距P；所述光學衍射元件（2）至少基于P、nref和n0對相鄰兩束所述第一子光束的間距進行調節；其中，，，，,，其中I0為所述第一子光束束腰處光強，w0為第一子光束經第一物鏡（6）聚焦后形成的光斑半徑。

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