買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標(biāo)用IPTOP,全免費！專利年費監(jiān)控用IP管家,真方便！

龍圖騰網(wǎng)恭喜華中科技大學(xué)申請的專利基于相變材料的顯示器件獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN118884763B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-20發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202410960751.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G02F1/17；該發(fā)明授權(quán)基于相變材料的顯示器件是由童浩;譚青山;周啟沛;繆向水設(shè)計研發(fā)完成，并于2024-07-17向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本基于相變材料的顯示器件在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種基于相變材料的顯示器件，該器件包括：寬帶吸收腔體結(jié)構(gòu)，包括有損相變層和金屬層，所述有損相變層沉積在所述金屬層上，所述有損相變層為有損相變材料，金屬層由多層K值大于1的金屬組成；窄帶吸收腔體結(jié)構(gòu)，位于所述寬帶吸收腔體結(jié)構(gòu)之下，所述窄帶吸收腔體結(jié)構(gòu)包括第一窄帶吸收腔體結(jié)構(gòu)和第二窄帶吸收腔體結(jié)構(gòu)，所述第一窄帶吸收腔體結(jié)構(gòu)位于第二窄帶吸收腔體結(jié)構(gòu)之上；所述第一窄帶吸收腔體結(jié)構(gòu)包括無損相變層和位于所述無損相變層兩側(cè)的金屬層；所述第二窄帶吸收腔體結(jié)構(gòu)包括介質(zhì)層和位于所述介質(zhì)層兩側(cè)的金屬層，所述無損相變層為無損相變材料。本發(fā)明實現(xiàn)透射和反射顏色相同、彩虹色現(xiàn)象弱和顏色可調(diào)，角度不敏感的特性。

本發(fā)明授權(quán)基于相變材料的顯示器件在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基于相變材料的顯示器件，其特征在于，包括：寬帶吸收腔體結(jié)構(gòu)，包括有損相變層和金屬層，所述有損相變層沉積在所述金屬層上，所述有損相變層為K值在可見光區(qū)域大于1的有損相變材料，所述金屬層為Ag和Cr的雙層結(jié)構(gòu)，所述金屬層的K值在可見光區(qū)域大于1，所述金屬層的厚度小于30nm，與所述有損相變材料在可見光區(qū)域共同構(gòu)成一個吸收率大于預(yù)設(shè)閾值的寬帶吸收體；窄帶吸收腔體結(jié)構(gòu)，位于所述寬帶吸收腔體結(jié)構(gòu)之下，所述窄帶吸收腔體結(jié)構(gòu)包括第一窄帶吸收腔體結(jié)構(gòu)和第二窄帶吸收腔體結(jié)構(gòu)，所述第一窄帶吸收腔體結(jié)構(gòu)位于第二窄帶吸收腔體結(jié)構(gòu)之上；所述第一窄帶吸收腔體結(jié)構(gòu)包括K值在可見光區(qū)域小于1的無損相變層和位于所述無損相變層兩側(cè)的金屬層；所述第二窄帶吸收腔體結(jié)構(gòu)包括介質(zhì)層和位于所述介質(zhì)層兩側(cè)的金屬層，所述無損相變層為無損相變材料；所述窄帶吸收腔體結(jié)構(gòu)中的金屬層包括ITO、Ag、Au、Cr和W中的一種或多種K值在可見光部分大于1的金屬材料；所述無損相變材料包括SbS和或SbSe合金，其中各原子的百分比可調(diào)。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人華中科技大學(xué)，其通訊地址為：430074 湖北省武漢市洪山區(qū)珞喻路1037號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。