恭喜ASML荷蘭有限公司K·Z·特魯斯特獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜ASML荷蘭有限公司申請的專利用于高數值孔徑穿縫源掩模優化的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112823312B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-17發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980066886.0，技術領域涉及：G03F1/70；該發明授權用于高數值孔徑穿縫源掩模優化的方法是由K·Z·特魯斯特;E·范塞滕;段福·史蒂芬·蘇設計研發完成，并于2019-10-03向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于高數值孔徑穿縫源掩模優化的方法在說明書摘要公布了：本文描述了一種利用光刻投影設備進行源掩模優化的方法。光刻投影設備包括照射源和被配置為將掩模設計布局成像到襯底上的投影光學器件。該方法包括使用針對照射源、投影光學器件和掩模設計布局的多個可調諧設計變量來確定多變量源掩模優化函數。多變量源掩模優化函數考慮到遍及曝光縫隙中對應于掩模設計布局的不同條紋的不同位置的成像變化，所述不同條紋由曝光設備的同一縫隙位置曝光。該方法包括迭代地調整所述多變量源掩模優化函數中的多個可調諧設計變量，直到滿足終止條件。
本發明授權用于高數值孔徑穿縫源掩模優化的方法在權利要求書中公布了：1.一種利用光刻投影設備進行源掩模優化的方法，所述光刻投影設備包括照射源和被配置為將掩模設計布局成像到襯底上的投影光學器件，所述方法包括： 利用硬件計算機系統，使用針對所述照射源、所述投影光學器件和所述掩模設計布局的多個可調諧設計變量來確定多變量源掩模優化函數，所述多變量源掩模優化函數描述遍及所述掩模設計布局的縫隙及不同縫隙的多個位置的成像變化；以及利用所述硬件計算機系統迭代地調整所述多變量源掩模優化函數中的所述多個可調諧設計變量，直到滿足終止條件。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人ASML荷蘭有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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