恭喜華盛頓大學D·T·邱獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜華盛頓大學申請的專利窄吸收聚合物納米粒子及相關方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112740018B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-17發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980060997.0，技術領域涉及：G01N21/64；該發明授權窄吸收聚合物納米粒子及相關方法是由D·T·邱;陳磊;于江波設計研發完成，并于2019-09-16向國家知識產權局提交的專利申請。
本窄吸收聚合物納米粒子及相關方法在說明書摘要公布了：本發明提供了聚合物、單體、窄帶吸收性聚合物、窄帶吸收性單體、吸收性單元、聚合物點和相關方法。本發明提供了具有窄帶吸收的明亮、發光聚合物納米粒子。本發明還提供了用于合成吸收性單體的方法，用于合成該聚合物的方法，用于形成該聚合物納米粒子的制備方法以及使用該聚合物納米粒子的應用。
本發明授權窄吸收聚合物納米粒子及相關方法在權利要求書中公布了：1.一種包括聚合物的納米粒子，所述聚合物包括： 吸收性單體單元，所述吸收性單體單元包括BODIPY、BODIPY衍生物、diBODIPY、diBODIPY衍生物、Atto染料、若丹明、若丹明衍生物、香豆素、香豆素衍生物、花青、花青衍生物、芘、芘衍生物、方酸、方酸衍生物或它們的任何組合；和 發射性單體單元； 其中所述納米粒子在吸光度最大值的10%處的吸收寬度小于150nm； 其中吸收性單體單元與發射性單體單元的數量比率大于4:1。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人華盛頓大學，其通訊地址為：美國華盛頓州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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