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龍圖騰網(wǎng)恭喜南方科技大學(xué)申請的專利一種批量轉(zhuǎn)移微納米結(jié)構(gòu)的方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115028140B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-16發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202210553884.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：B81C1/00；該發(fā)明授權(quán)一種批量轉(zhuǎn)移微納米結(jié)構(gòu)的方法是由邱成峰;程鑫;劉召軍;劉紅均設(shè)計研發(fā)完成，并于2022-05-19向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種批量轉(zhuǎn)移微納米結(jié)構(gòu)的方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種批量轉(zhuǎn)移微納米結(jié)構(gòu)的方法，包括如下步驟：S1：在暫存基板上形成圖案化的開孔；S2：在暫存基板的開孔內(nèi)形成氧化鋅微納米結(jié)構(gòu)；S3：在暫存基板上旋涂覆蓋氧化鋅微納米結(jié)構(gòu)的第一高分子溶液涂層；S4：在待轉(zhuǎn)移的目標(biāo)柔性基底上同樣旋涂第二高分子溶液涂層；S5：目標(biāo)柔性基底具有第二高分子涂層的一面與暫存基板的氧化鋅微納米結(jié)構(gòu)結(jié)合，使得目標(biāo)基板的第二高分子涂層和暫存基板的第一高分子涂層熱熔結(jié)合在一起；S6：冷卻后，模板目標(biāo)柔性基底與暫存基板分離。本發(fā)明批量轉(zhuǎn)移微納米結(jié)構(gòu)的方法針對3D結(jié)構(gòu)的微納米結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移，轉(zhuǎn)移方法簡單有效且成功率極高。

本發(fā)明授權(quán)一種批量轉(zhuǎn)移微納米結(jié)構(gòu)的方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種批量轉(zhuǎn)移微納米結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，包括如下步驟：S1：在暫存基板（10）上形成圖案化的開孔（11）；S2：在暫存基板（10）的開孔（11）內(nèi)形成氧化鋅微納米結(jié)構(gòu)（12）；S3：在暫存基板（10）上旋涂覆蓋氧化鋅微納米結(jié)構(gòu)（12）的第一高分子溶液涂層（13），使得氧化鋅微納米結(jié)構(gòu)（12）能夠被完全覆蓋，然后固化該第一高分子溶液涂層（13）；S4：在待轉(zhuǎn)移的目標(biāo)柔性基底（20）上同樣旋涂第二高分子溶液涂層（21），并固化第二高分子溶液涂層（21）；S5：目標(biāo)柔性基底（20）具有第二高分子涂層的一面與暫存基板（10）的氧化鋅微納米結(jié)構(gòu)（12）結(jié)合，同時施加壓力和加熱并保持一段時間，使得目標(biāo)柔性基底（20）的第二高分子涂層和暫存基板（10）的第一高分子涂層熱熔結(jié)合在一起；S6：冷卻后，目標(biāo)柔性基底（20）與暫存基板（10）分離，即將暫存基板（10）的氧化鋅微納米結(jié)構(gòu)（12）轉(zhuǎn)移至目標(biāo)柔性基底（20）上；步驟S1的具體方法為：S11：在暫存基板（10）上沉積一層光阻層；S12：采用電子束對光阻層進(jìn)行曝光和顯影形成陣列設(shè)置的開孔。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人南方科技大學(xué)，其通訊地址為：518000 廣東省深圳市南山區(qū)桃源街道學(xué)苑大道1088號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。