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奧加諾株式會社高橋一重獲國家專利權

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龍圖騰網獲悉奧加諾株式會社申請的專利硼去除裝置及方法、純水制造裝置以及純水制造方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115551809B

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202180034472.7,技術領域涉及:C02F1/469;該發明授權硼去除裝置及方法、純水制造裝置以及純水制造方法是由高橋一重;須藤史生;中村勇規;柴崎賢治;佐佐木慶介設計研發完成,并于2021-03-30向國家知識產權局提交的專利申請。

硼去除裝置及方法、純水制造裝置以及純水制造方法在說明書摘要公布了:本發明提供一種降低被處理水中的硼濃度的硼去除裝置及硼去除方法、降低了硼濃度的純水的制造裝置以及制造方法。本發明使用硼去除裝置和使用該裝置的硼去除方法,所述硼去除裝置具有:第一電再生式去離子裝置,其被供給被處理水;紫外線氧化裝置,其被供給由所述第一電再生式去離子裝置處理后的水;氧化物去除裝置,其被供給由所述紫外線氧化裝置處理后的水;以及第二電再生式去離子裝置,其被供給由所述氧化物去除裝置處理后的水。所述氧化物去除裝置優選具備鉑族金屬催化劑,由所述氧化物去除裝置處理后的水的過氧化氫濃度小于1ppb。

本發明授權硼去除裝置及方法、純水制造裝置以及純水制造方法在權利要求書中公布了:1.一種硼去除裝置,具有:第一電再生式去離子裝置,其被供給被處理水;紫外線氧化裝置,其被供給由所述第一電再生式去離子裝置處理后的水;氧化物去除裝置,其被供給由所述紫外線氧化裝置處理后的水;以及第二電再生式去離子裝置,其被供給由所述氧化物去除裝置處理后的水,所述氧化物去除裝置具備鉑族金屬催化劑,該鉑族金屬催化劑擔載于OH形的強堿性陰離子交換體,由所述第一電再生式去離子裝置處理后的水的過氧化氫濃度小于1ppb。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人奧加諾株式會社,其通訊地址為:日本國東京都;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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