易客發(fā)有限公司K·希姆舒特獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉易客發(fā)有限公司申請的專利具有改進(jìn)的日光穩(wěn)定性的平版光聚合物印刷版前體獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115605349B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-13發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202180041286.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：B41C1/10；該發(fā)明授權(quán)具有改進(jìn)的日光穩(wěn)定性的平版光聚合物印刷版前體是由K·希姆舒特;E·韋爾梅倫;T·比利埃;F·戈瑟爾斯設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-05-25向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本具有改進(jìn)的日光穩(wěn)定性的平版光聚合物印刷版前體在說明書摘要公布了：公開了一種平版印刷版前體，其包括載體、可光聚合圖像記錄層和包含低分子自由基抑制劑的外涂層。在按圖像暴露后，將印版加熱，由此自由基抑制劑從外涂層擴(kuò)散到圖像記錄層，導(dǎo)致經(jīng)暴露和加熱的前體的日光穩(wěn)定性增加。這種印版特別適用于在機(jī)加工。
本發(fā)明授權(quán)具有改進(jìn)的日光穩(wěn)定性的平版光聚合物印刷版前體在權(quán)利要求書中公布了：1.一種平版印刷版前體，其包括載體并按次序在其上提供：-陰圖制版圖像記錄層，其在暴露于紫外光、紫光或紅外光時經(jīng)歷自由基聚合或交聯(lián)反應(yīng)；-外涂層，其包含低分子自由基抑制劑，其為分子量小于1000道爾頓的有機(jī)化合物，或在加熱時釋放所述低分子自由基抑制劑的聚合物，其特征在于，在加熱時，所述低分子自由基抑制劑能夠擴(kuò)散到圖像記錄層，從而使圖像記錄層比所述加熱之前對日光更不敏感。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人易客發(fā)有限公司，其通訊地址為：比利時莫策爾；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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1、本報告根據(jù)公開、合法渠道獲得相關(guān)數(shù)據(jù)和信息，力求客觀、公正，但并不保證數(shù)據(jù)的最終完整性和準(zhǔn)確性。
2、報告中的分析和結(jié)論僅反映本公司于發(fā)布本報告當(dāng)日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔(dān)任何法律責(zé)任的依據(jù)或者憑證。
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