恭喜朗姆研究公司斯蒂芬·J·巴尼克二世獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜朗姆研究公司申請的專利先進封裝應用的差別對比鍍覆獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114514340B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080067446.X，技術領域涉及：C25D7/12；該發明授權先進封裝應用的差別對比鍍覆是由斯蒂芬·J·巴尼克二世;雅各布·柯蒂斯·布里肯斯德費爾;凱拉什·文卡特拉曼;賈斯廷·奧伯斯特;蔡利鵬;布萊恩·L·巴卡柳;史蒂芬·T·邁耶設計研發完成，并于2020-07-22向國家知識產權局提交的專利申請。
本先進封裝應用的差別對比鍍覆在說明書摘要公布了：提供將金屬電鍍至襯底上部分制成的電子裝置的特征具有實質上不同深度中的方法。該方法包括將加速劑吸附至凹陷特征的底部中；在電鍍溶液中通過自下向上填充機制部分地填充特征；使整平劑擴散至淺特征中，以相比于深特征而降低淺特征中的鍍覆速率；以及將更多金屬電鍍至特征中，以使深特征中的金屬高度近似于淺特征中的金屬高度。
本發明授權先進封裝應用的差別對比鍍覆在權利要求書中公布了：1.一種電鍍金屬至襯底的特征中的方法，所述襯底包括部分制成的電子裝置，其具有在金屬晶種層上的光致抗蝕劑層中的特征，所述方法包括：a將襯底的表面暴露于包含加速劑化合物的預加速溶液；b將所述襯底的至少所述表面浸入包含所述金屬的離子、抑制劑和整平劑的電鍍溶液，所述整平劑的類型是相對于所述襯底表面的較凹陷區域，降低所述襯底表面的較暴露區域的鍍覆速率；c在所述襯底的所述表面浸入所述電鍍溶液中時，將所述金屬電鍍至所述特征中，以部分地填充所述特征；以及d將所述襯底從所述電鍍溶液移走，其中當由上往下觀看所述襯底時，所述光致抗蝕劑層中的所述特征具有不同深度、不同負載、不同形狀和或不同關鍵尺寸、及其組合。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人朗姆研究公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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