阿瓦瓦公司J·巴瓦爾卡獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉阿瓦瓦公司申請的專利用于治療設備的反饋檢測獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114727841B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-07-04發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080078590.3，技術領域涉及：A61B18/20；該發明授權用于治療設備的反饋檢測是由J·巴瓦爾卡;R·凱特卡姆;L·J·萊文;C·H·德雷瑟設計研發完成，并于2020-11-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于治療設備的反饋檢測在說明書摘要公布了：根據一些實施例，一種用于分次治療組織的系統包括：電磁輻射EMR源，被配置為產生具有橫向環形能量分布的EMR光束；光學器件，被配置為將該EMR光束會聚到位于組織內的聚焦區域；以及窗口組件，位于該光學器件的下光束，該窗口組件被配置為當被放置成與該組織的外表面接觸時冷卻該組織。
本發明授權用于治療設備的反饋檢測在權利要求書中公布了：1.一種基于電磁輻射治療的系統，包括： 電磁輻射源，被配置為產生具有波長在1200nm至12000nm范圍內的EMR光束； 光束整形器，包括第一軸錐鏡和第二軸錐鏡，被配置為將所述EMR光束整形為橫向環形能量分布； 光學器件，被配置為將所述EMR光束會聚到位于組織內的聚焦區域； 光束掃描系統，被配置為掃描所述組織內的所述聚焦區域； 窗口組件，位于所述光學器件的下光束，被配置為當被放置成與所述組織的外表面接觸時傳輸所述EMR光束并且冷卻所述組織，其中所述窗口組件包括： 第一窗口； 第二窗口，與所述第一窗口分離；以及 冷卻劑腔室，位于所述第一窗口和所述第二窗口之間，其中所述冷卻劑腔室被配置為容納冷卻劑，所述冷卻劑包括基本上不吸收所述EMR光束的氟碳基流體；以及 控制器，被配置為控制所述電磁輻射源以產生具有多個脈沖的所述EMR光束，其中所述多個脈沖中的至少一個脈沖具有不小于100微秒的脈沖持續時間。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人阿瓦瓦公司，其通訊地址為：美國馬薩諸塞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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