恭喜朗姆研究公司克里斯多夫·蓋奇獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜朗姆研究公司申請的專利用于增進熱均勻性的具有多層加熱器的陶瓷基座獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113169109B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-07-01發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980079164.9，技術領域涉及：H01L21/683；該發明授權用于增進熱均勻性的具有多層加熱器的陶瓷基座是由克里斯多夫·蓋奇設計研發完成，并于2019-11-25向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于增進熱均勻性的具有多層加熱器的陶瓷基座在說明書摘要公布了：一種用于被設置成在襯底上執行沉積工藝的襯底處理系統的襯底支撐件包含：基座，其具有被設置成支撐襯底的上表面；以及N個加熱層，其中所述N個加熱層在所述基座內在所述上表面下方豎直堆疊。所述N個加熱層中的每一者包含各自的電阻加熱元件。在所述N個加熱層中的至少一者中的所述電阻加熱元件的瓦特密度在所述襯底支撐件的至少一徑向區中相對于所述襯底支撐件的其他徑向區而變化。
本發明授權用于增進熱均勻性的具有多層加熱器的陶瓷基座在權利要求書中公布了：1.一種用于襯底處理系統的襯底支撐件，所述襯底處理系統被設置成在襯底上執行沉積工藝，所述襯底支撐件包含： 基座，其具有被設置成支撐襯底的上表面；以及 N個加熱層，其中所述N個加熱層在所述基座內在所述上表面下方豎直堆疊，且其中所述N個加熱層中的每一者包含各自的電阻加熱元件， 其中所述N個加熱層中的至少一者中的所述電阻加熱元件中的至少一個在所述基座的第一區域中具有與i位于所述第一區域的徑向內側的基座的第二區域和ii位于所述第一區域的徑向外側的基座的第三區域不同的瓦特密度偏差。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人朗姆研究公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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