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龍圖騰網(wǎng)恭喜上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司申請(qǐng)的專利一種光刻機(jī)框架及光刻機(jī)獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN111381450B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-17發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：201811642844.0，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/20；該發(fā)明授權(quán)一種光刻機(jī)框架及光刻機(jī)是由張瑞平;楊玉杰設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2018-12-29向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種光刻機(jī)框架及光刻機(jī)在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供了一種光刻機(jī)框架及光刻機(jī)，光刻機(jī)框架包括測(cè)量支架、主基板、Y向干涉儀支架及連接臂，測(cè)量支架的下底面形成有一延伸部，延伸部上沿Y向相對(duì)的兩個(gè)側(cè)壁分別為第一側(cè)壁和第二側(cè)壁，測(cè)量支架的下底面上沿Y向位于延伸部的兩側(cè)的底面分別為第一下底面和第二下底面，主基板上開設(shè)有一凹槽，延伸部位于凹槽內(nèi)，并且測(cè)量支架通過第一下底面和第二下底面與主基板連接，Y向干涉儀支架固定連接于測(cè)量支架一端，連接臂設(shè)置于主基板內(nèi)，連接臂一端固定連接于Y向干涉儀支架，另一端固定連接于第一側(cè)壁。測(cè)量支架和主基板T形嵌設(shè)連接，提高了干涉測(cè)量系統(tǒng)的測(cè)量精度，減少了震動(dòng)的傳遞對(duì)曝光成像系統(tǒng)的影響，有效提高了光刻機(jī)整機(jī)系統(tǒng)的穩(wěn)定性。

本發(fā)明授權(quán)一種光刻機(jī)框架及光刻機(jī)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種光刻機(jī)框架，其特征在于，包括測(cè)量支架和主基板，所述測(cè)量支架的下底面的部分沿遠(yuǎn)離所述下底面的方向向外延伸形成一延伸部，所述測(cè)量支架的下底面上沿Y向位于所述延伸部的兩側(cè)的底面分別為第一下底面和第二下底面； 所述主基板的上端面開設(shè)有一與所述延伸部相匹配的凹槽，所述延伸部嵌設(shè)于所述凹槽內(nèi)，并且所述測(cè)量支架通過所述第一下底面和所述第二下底面與所述主基板連接； 所述第一下底面包括兩個(gè)相互間隔設(shè)置的用于與所述主基板連接的連接區(qū)域，所述第二下底面包括兩個(gè)相互間隔設(shè)置的用于與所述主基板連接的連接區(qū)域，所述第一下底面的兩個(gè)所述連接區(qū)域的區(qū)域中心的連線所在的直線與所述第二下底面的兩個(gè)所述連接區(qū)域的區(qū)域中心的連線所在的直線之間相交呈T形分布，所述Y向?yàn)楣饪虣C(jī)的掃描方向。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司，其通訊地址為：201203 上海市浦東新區(qū)張東路1525號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。