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龍圖騰網恭喜拓荊科技股份有限公司申請的專利晶圓加工設備獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114334766B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-10發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111632328.1，技術領域涉及：H01L21/677；該發明授權晶圓加工設備是由李慧;姜宗帥;野沢俊久;張孝勇;周堅;田曉明;李丹設計研發完成，并于2021-12-28向國家知識產權局提交的專利申請。

本晶圓加工設備在說明書摘要公布了：本發明提供了一種晶圓加工設備。該晶圓加工設備包括前端控制裝置、裝載裝置、連接件和傳輸裝置；前端控制裝置通過連接件與裝載裝置連接，傳輸裝置設置于裝載裝置遠離連接件的一側，傳輸裝置的周向上排布有至少一個反應腔室，反應腔室用于加工晶圓，傳輸裝置用于輸送晶圓，裝載裝置用于暫存晶圓，連接件用于供晶圓通過。本發明的晶圓加工設備通過設置傳輸裝置便于在裝載裝置、傳輸裝置、反應腔室和前端控制裝置之間輸送晶圓。在傳輸裝置的周向上排布有至少一個反應腔室，便于對晶圓進行加工處理。通過設置連接件調整傳輸裝置與前端控制裝置之間的空間，進而便于對前端控制裝置、傳輸裝置以及裝載裝置的維護，且結構簡單、便于實現和使用。

本發明授權晶圓加工設備在權利要求書中公布了：1.一種晶圓加工設備，其特征在于，包括前端控制裝置、裝載裝置、連接件和傳輸裝置；所述前端控制裝置通過所述連接件與所述裝載裝置連接，所述傳輸裝置設置于所述裝載裝置遠離所述連接件的一側，所述傳輸裝置的周向上排布有至少一個反應腔室，所述反應腔室用于加工所述晶圓，所述傳輸裝置用于輸送晶圓，所述裝載裝置用于暫存晶圓，所述連接件用于供晶圓通過；所述傳輸裝置上的反應腔室距離所述前端控制裝置的安全距離為La1；所述裝載裝置的長度為Lz1，所述連接件的長度為Li1，所述反應腔室的長度為Lp1，所述傳輸裝置上的反應腔室與所述傳輸裝置的夾角為所述傳輸裝置的反應腔室距離所述前端控制裝置的最小距離為Ls1； 且Ls1≥La1；還包括若干第一門閥裝置，各個所述第一門閥裝置分別設置于各個所述反應腔室與所述傳輸裝置之間，各個所述第一門閥裝置分別用于控制各個對應的所述反應腔室與所述傳輸裝置之間的啟閉；所述反應腔室與所述傳輸裝置之間設有第一安裝部和第二安裝部，所述第一安裝部設置于靠近所述傳輸裝置的一側，所述第二安裝部設置于靠近所述反應腔室的一側，所述第一門閥裝置包括無閥盒門閥和有閥盒門閥，所述無閥盒門閥設置于所述第一安裝部時，所述有閥盒門閥設置于所述第二安裝部。

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