恭喜臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司歐陽(yáng)盼盼獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司申請(qǐng)的專利微影圖案化的方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN111123652B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-24發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：201911044481.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/16；該發(fā)明授權(quán)微影圖案化的方法是由歐陽(yáng)盼盼設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2019-10-30向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本微影圖案化的方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：根據(jù)一些實(shí)施例，本公開(kāi)實(shí)施例提供一種微影圖案化的方法。此方法包括：形成光阻層于基底上方；執(zhí)行滲透制程將金屬化合物引入此光阻層以增強(qiáng)此光阻層對(duì)極紫外光輻射的敏感度；使用此極紫外光輻射對(duì)此光阻層執(zhí)行曝光制程；以及對(duì)此光阻層執(zhí)行顯影制程以形成圖案化阻抗層。
本發(fā)明授權(quán)微影圖案化的方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種微影圖案化方法，包括： 形成一光阻層于一基底之上； 使用一含金屬前驅(qū)物對(duì)該光阻層執(zhí)行一滲透制程，以增強(qiáng)該光阻層對(duì)一極紫外光輻射的敏感度； 在該滲透制程之后，使用該極紫外光輻射對(duì)該光阻層執(zhí)行一曝光制程；以及 對(duì)該光阻層執(zhí)行一顯影制程以形成一圖案化阻抗層。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司，其通訊地址為：中國(guó)臺(tái)灣新竹市；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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1、本報(bào)告根據(jù)公開(kāi)、合法渠道獲得相關(guān)數(shù)據(jù)和信息，力求客觀、公正，但并不保證數(shù)據(jù)的最終完整性和準(zhǔn)確性。
2、報(bào)告中的分析和結(jié)論僅反映本公司于發(fā)布本報(bào)告當(dāng)日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔(dān)任何法律責(zé)任的依據(jù)或者憑證。
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