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龍圖騰網恭喜深圳市聯影高端醫療裝備創新研究院申請的專利一種磁共振指紋成像字典分辨率優化方法及裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114359428B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-27發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111602573.8，技術領域涉及：G06T11/00；該發明授權一種磁共振指紋成像字典分辨率優化方法及裝置是由張麗設計研發完成，并于2021-12-24向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種磁共振指紋成像字典分辨率優化方法及裝置在說明書摘要公布了：本發明公開一種磁共振指紋成像字典分辨率優化方法及裝置，方法包括：建立遺傳算法的約束條件和目標函數，其中，所述約束條件根據預設的磁共振指紋成像精度建立，所述目標函數根據磁共振指紋成像的各個組織參數的步長建立；根據所述遺傳算法的目標函數，建立所述遺傳算法的適應度函數；基于約束條件，采用遺傳算法對所述適應度函數進行尋優計算，獲取所述適應度函數最優下所對應的目標函數的各個組織參數的步長。本發明解決了現有技術中由于采用人工進行成像物體的組織參數的間隔設置而導致的MRF字典分辨率不高的技術問題。

本發明授權一種磁共振指紋成像字典分辨率優化方法及裝置在權利要求書中公布了：1.一種磁共振指紋成像字典分辨率優化方法，其特征在于，包括如下步驟：建立遺傳算法的約束條件和目標函數，其中，所述約束條件根據預設的磁共振指紋成像精度建立，所述目標函數根據磁共振指紋成像的各個組織參數的步長建立；根據所述遺傳算法的目標函數，建立所述遺傳算法的適應度函數；基于約束條件，采用遺傳算法對所述適應度函數進行尋優計算，獲取所述適應度函數最優下所對應的目標函數的各個組織參數的步長;所述磁共振指紋成像的各個組織參數至少包括縱向弛豫時間、橫向弛豫時間以及質子自旋密度;所述基于約束條件，采用遺傳算法對所述適應度函數進行尋優計算，獲取所述適應度函數最優下所對應的目標函數的各個組織參數的步長，包括：步驟一、生成初始種群，所述初始種群由若干個個體組成，所述個體為一個組織參數的隨機步長或者至少兩個組織參數的隨機步長的集合；步驟二、根據所述適應度函數計算初始種群的個體適應度；步驟三、根據所述個體適應度，對所述初始種群的個體進行遺傳選擇；步驟四、對選擇出的個體進行交叉操作，以得到兩個新的個體；步驟五、對選擇出的個體進行變異操作，以得到新的個體；步驟六、重復步驟二至步驟五預設迭代次數后，得到滿足目標函數和約束條件的最優個體，以所述最優個體的各個組織參數的步長作為所述適應度函數最優下所對應的目標函數的各個組織參數的步長。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人深圳市聯影高端醫療裝備創新研究院，其通訊地址為：518017 廣東省深圳市福田區福田保稅區檳榔道3號深九科技創業園B棟8-13層；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。