恭喜住友化學株式會社K·坎姆特卡爾獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜住友化學株式會社申請的專利光活性化合物獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113169283B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-13發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980078458.X，技術領域涉及：C07D495/04；該發明授權光活性化合物是由K·坎姆特卡爾設計研發完成，并于2019-11-29向國家知識產權局提交的專利申請。
本光活性化合物在說明書摘要公布了：式I的化合物：EAG—EDG—EAGI其中EDG是包含多環雜芳族基團的給電子基團，并且每個EAG是式II的電子接受基團：其中R10在每次出現時為H或取代基；????是與EDG的鍵；并且每個X1?X4獨立地為CR11或N，其中R11在每次出現時為H或取代基，條件是X1?X4中至少一個的至少一次出現為N。該化合物可用作有機光檢測器的本體異質結層中的受主。
本發明授權光活性化合物在權利要求書中公布了：1.式Ia的化合物： 其中：Ar是呋喃、噻吩、噻吩并噻吩或苯，所述呋喃、噻吩、噻吩并噻吩或苯是未取代的或者取代有一個或多個取代基；每個Y獨立地為O或S；每個A獨立地為O、S或CR1R2，其中R1和R2在每次出現時獨立地為取代基；每個R4-R9獨立地為H或取代基；p為0、1、2或3；q是0、1、2或3；Z1是直接鍵或與R4或R5一起形成芳族或雜芳族基團Ar1；Z2是直接鍵或與R7或R8一起形成芳族或雜芳族基團Ar2；Z3是直接鍵或與R6一起形成芳族或雜芳族基團Ar3；和Z4是直接鍵或與R9一起形成芳族或雜芳族基團Ar4；其中R10在每次出現時為H或取代基；每個X1-X4獨立地為CR11或N，其中R11在每次出現時為H或取代基，條件是X1-X4中至少一個的至少一次出現為N。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人住友化學株式會社，其通訊地址為：日本東京；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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