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恭喜華南師范大學張準獲國家專利權

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龍圖騰網恭喜華南師范大學申請的專利渦旋光發射裝置及其制作方法、控制方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN119652427B

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-09發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510185368.8,技術領域涉及:H04B10/70;該發明授權渦旋光發射裝置及其制作方法、控制方法是由張準;李煌設計研發完成,并于2025-02-20向國家知識產權局提交的專利申請。

渦旋光發射裝置及其制作方法、控制方法在說明書摘要公布了:本申請提供一種渦旋光發射裝置及其制作方法、控制方法,其中,所述渦旋光發射裝置包括背地金屬片、環形金屬片、若干個變容二極管以及無磁性介質,所述環形金屬片設置在所述背地金屬片上方,所述變容二極管設置在所述環形金屬片以及所述背地金屬片之間,并沿所述環形金屬片均勻設置,所述無磁性介質填充于所述環形金屬片以及所述背地金屬片之間以形成介質層,各個所述變容二極管的正極通過所述環形金屬片接入外部電壓源的正極,各個所述變容二極管的負極通過所述背地金屬片接入外部電壓源的負極。由此,本申請中的所述渦旋光發射裝置結構簡單、成本低廉且易于實施,同時還可以用于實現不同輻射階次的OAM波調節及發射,有效地提高了通信效率。

本發明授權渦旋光發射裝置及其制作方法、控制方法在權利要求書中公布了:1.一種渦旋光發射裝置,其特征在于,包括背地金屬片、環形金屬片、若干個變容二極管以及無磁性介質,所述環形金屬片設置在所述背地金屬片上方,所述變容二極管設置在所述環形金屬片以及所述背地金屬片之間,并沿所述環形金屬片均勻設置,所述無磁性介質填充于所述環形金屬片以及所述背地金屬片之間以形成介質層;各個所述變容二極管的正極通過所述環形金屬片接入外部電壓源的正極,各個所述變容二極管的負極通過所述背地金屬片接入外部電壓源的負極,其中,所述外部電壓源用于提供一直流偏置電壓;所述變容二極管設置在所述環形金屬片以及所述背地金屬片之間時的等效相對介電常數為第一預設值,且所述等效相對介電常數為所述第一預設值時,所述變容二極管在所述直流偏置電壓下等效為靜態光柵;通過所述外部電壓源向所述渦旋光發射裝置提供所述直流偏置電壓;通過對各個所述變容二極管進行單獨的電路通斷控制來調節所述變容二極管的工作數量,使所述渦旋光發射裝置發出相應輻射階次的OAM波。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人華南師范大學,其通訊地址為:510006 廣東省廣州市番禺區外環西路378號華南師范大學光電科學與工程學院;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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