恭喜東京毅力科創株式會社戶根川大和獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜東京毅力科創株式會社申請的專利膜形成方法和系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113053726B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-06發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202011477873.3，技術領域涉及：H01L21/02；該發明授權膜形成方法和系統是由戶根川大和;金珍錫設計研發完成，并于2020-12-15向國家知識產權局提交的專利申請。
本膜形成方法和系統在說明書摘要公布了：本發明涉及膜形成方法和系統。[課題]提供可以形成低雜質濃度的薄膜的技術。[解決方案]本公開的一方式的膜形成方法通過執行包括如下工序的多次循環而形成薄膜：向基板供給原料氣體的工序；向前述基板供給與前述原料氣體反應的反應氣體的工序；和，將前述基板用重氫等離子體進行處理的工序。
本發明授權膜形成方法和系統在權利要求書中公布了：1.一種膜形成方法，其通過執行包括如下工序的多次循環而形成薄膜：向基板供給原料氣體的工序；向所述基板供給與所述原料氣體反應的反應氣體的工序；將所述基板用重氫等離子體進行處理的工序；以及將所述基板用氫等離子體進行處理的工序，其在所述用重氫等離子體進行處理的工序前或工序后進行。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東京毅力科創株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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