恭喜第一陽光公司陳樂獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜第一陽光公司申請的專利通過氣相傳輸沉積進行鈣鈦礦器件加工的方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115485410B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-06發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202180029423.4,技術領域涉及:C23C14/06;該發明授權通過氣相傳輸沉積進行鈣鈦礦器件加工的方法是由陳樂;D·何;李曉萍;R·鮑威爾;宋之斌;V·斯坦曼;A·瓦拉達拉詹;D·韋斯;熊剛;趙志波設計研發完成,并于2021-02-19向國家知識產權局提交的專利申請。
本通過氣相傳輸沉積進行鈣鈦礦器件加工的方法在說明書摘要公布了:描述了通過使用氣相傳輸沉積VTD形成鈣鈦礦層和鈣鈦礦前體層用于制造光伏器件的結構和方法。
本發明授權通過氣相傳輸沉積進行鈣鈦礦器件加工的方法在權利要求書中公布了:1.形成鈣鈦礦前體層的方法,包括:在沉積室中提供基體堆,所述基體堆具有在電極上的第一電荷傳輸層;通過氣相傳輸沉積VTD工藝將第一鈣鈦礦形成組合物沉積在所述沉積室中的所述基體堆上,包括:將源材料加熱至375℃-550℃范圍內的溫度,其中所述源材料包含以下至少一種:碘化鉛PbI2、溴化鉛PbBr2、溴化銫CsBr、碘化鉛銫CsPbI3、碘化錫銫CsSnI3、氯化鉛PbCl2、碘化錫SnI2、溴化錫SnBr2,或氯化錫SnCl2;提供蒸汽幕以使用載氣將所述源材料的蒸汽引導朝向所述沉積室中的所述基體堆,其中所述蒸汽幕具有大于1米的寬度,所述沉積室的壓力在0.1-2.0托的范圍內,并且載氣流速在80sccm-150sccm的范圍內;以及以0.01-1.50μm分鐘的沉積速率將所述前體層形成至100-2000nm的厚度,其中所述前體層包含多個金屬鹵化物晶體顆粒結構,其中:所述顆粒結構具有垂直于所述基體堆的表面的高度和平行于所述基體堆的表面的寬度,并且平均顆粒寬度小于平均顆粒高度的三分之一。
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