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龍圖騰網恭喜無錫邑文微電子科技股份有限公司;江蘇邑文微電子科技有限公司申請的專利刻蝕設備及其控壓方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119517721B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-02發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510088919.9，技術領域涉及：H01J37/32；該發明授權刻蝕設備及其控壓方法是由王顯亮;林洋洋;楊文賓設計研發完成，并于2025-01-21向國家知識產權局提交的專利申請。

本刻蝕設備及其控壓方法在說明書摘要公布了：本發明涉及半導體技術領域，公開一種刻蝕設備及其控壓方法。其中刻蝕設備的刻蝕主體內形成刻蝕腔體；控壓單元包括上控壓環和下控壓環，刻蝕主體上設置有限位件，上控壓環置于限位件或置于下控壓環的上表面；驅動單元的驅動件用于驅動下控壓環沿上下方向移動；控制單元包括檢測組件，當檢測組件檢測到刻蝕腔體內壓力為第一預設壓力時，驅動件能驅動下控壓環以第一預設速度移動；當檢測組件檢測到刻蝕腔體內壓力為第二預設壓力時，驅動件能驅動下控壓環以第二預設速度移動，以使刻蝕腔體內氣壓動態穩定保持工作壓力，第一預設速度大于第二預設速度。本發明根據刻蝕腔體內實時壓力值控制控壓單元的移動速度，控壓效果更好。

本發明授權刻蝕設備及其控壓方法在權利要求書中公布了：1.刻蝕設備，其特征在于，包括：刻蝕主體110，其內形成刻蝕腔體111，所述刻蝕主體110的開口端設置有上硅環120；控壓單元200，包括上控壓環210和下控壓環220，所述刻蝕主體110上設置有限位件，所述上控壓環210置于所述限位件或置于所述下控壓環220的上表面，所述上控壓環210和所述上硅環120之間、所述上控壓環210和所述下控壓環220之間、所述下控壓環220與所述刻蝕主體110之間，至少一處形成有氣體通道，限位件設置為限位孔113，上控壓環210包括穿孔部211和限位翻邊212，其中穿孔部211穿設于限位孔113內，限位翻邊212能與限位孔113的端部選擇性抵接；驅動單元300，包括驅動件，所述驅動件用于驅動所述下控壓環220沿上下方向移動，對所述氣體通道進行動態調節；控制單元，包括檢測組件，所述驅動件與所述檢測組件通訊連接，當所述檢測組件檢測到所述刻蝕腔體111內壓力為第一預設壓力時，所述驅動件能驅動所述下控壓環220以第一預設速度移動；當所述檢測組件檢測到所述刻蝕腔體111內壓力為第二預設壓力時，所述驅動件能驅動所述下控壓環220以第二預設速度移動，以使所述刻蝕腔體111內氣壓動態穩定保持工作壓力，所述第一預設速度大于所述第二預設速度。

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