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恭喜德州學(xué)院張秀玲獲國家專利權(quán)

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龍圖騰網(wǎng)恭喜德州學(xué)院申請的專利一種氟修飾的多孔框架晶體材料及其制備方法和乙炔/二氧化碳分離應(yīng)用獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN119608128B

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-02發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202510151755.X,技術(shù)領(lǐng)域涉及:B01J20/26;該發(fā)明授權(quán)一種氟修飾的多孔框架晶體材料及其制備方法和乙炔/二氧化碳分離應(yīng)用是由張秀玲;王廣銀;賈春曉;王娜;逄家慧;崔曉淵;張新丹;張永正;耿龍龍;張大帥設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2025-02-12向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

一種氟修飾的多孔框架晶體材料及其制備方法和乙炔/二氧化碳分離應(yīng)用在說明書摘要公布了:本發(fā)明屬于晶體多孔框架材料制備和吸附分離技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種氟修飾的多孔框架晶體材料及其制備方法和乙炔二氧化碳分離應(yīng)用。所述氟修飾的多孔框架晶體材料結(jié)構(gòu)新穎、框架穩(wěn)定,存在反三棱柱和三角雙錐兩種多面體籠子。在77K溫度下,材料的氮?dú)獾葴匚角€為I型,在壓力PP0=0.995處的氮?dú)庾畲笪搅繛?95cm3g,由吸附數(shù)據(jù)計(jì)算得到的比表面積為991m2g,孔徑分布為4.5?12.0?。此永久性的孔道和適宜的孔尺寸以及氟原子修飾的孔道內(nèi)表面環(huán)境,可為選擇性吸附氣體提供充足的空間和豐富的結(jié)合位點(diǎn),使得該材料適用于混合氣體的吸附分離。

本發(fā)明授權(quán)

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人德州學(xué)院,其通訊地址為:253000 山東省德州市德城區(qū)大學(xué)西路566號;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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