德州學院張秀玲獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉德州學院申請的專利一種氟修飾的多孔框架晶體材料及其制備方法和乙炔/二氧化碳分離應用獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119608128B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-02發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510151755.X，技術領域涉及：B01J20/26；該發明授權一種氟修飾的多孔框架晶體材料及其制備方法和乙炔/二氧化碳分離應用是由張秀玲;王廣銀;賈春曉;王娜;逄家慧;崔曉淵;張新丹;張永正;耿龍龍;張大帥設計研發完成，并于2025-02-12向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種氟修飾的多孔框架晶體材料及其制備方法和乙炔/二氧化碳分離應用在說明書摘要公布了：本發明屬于晶體多孔框架材料制備和吸附分離技術領域，涉及一種氟修飾的多孔框架晶體材料及其制備方法和乙炔二氧化碳分離應用。所述氟修飾的多孔框架晶體材料結構新穎、框架穩定，存在反三棱柱和三角雙錐兩種多面體籠子。在77K溫度下，材料的氮氣等溫吸附曲線為I型，在壓力PP0=0.995處的氮氣最大吸附量為295cm3g，由吸附數據計算得到的比表面積為991m2g，孔徑分布為4.5?12.0?。此永久性的孔道和適宜的孔尺寸以及氟原子修飾的孔道內表面環境，可為選擇性吸附氣體提供充足的空間和豐富的結合位點，使得該材料適用于混合氣體的吸附分離。
本發明授權
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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