恭喜松下知識(shí)產(chǎn)權(quán)經(jīng)營(yíng)株式會(huì)社末次大輔獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜松下知識(shí)產(chǎn)權(quán)經(jīng)營(yíng)株式會(huì)社申請(qǐng)的專利濺射裝置以及濺射方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN108203809B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:201711303507.4,技術(shù)領(lǐng)域涉及:C23C14/35;該發(fā)明授權(quán)濺射裝置以及濺射方法是由末次大輔;田邊正明;奧田晃;瀧井謙昌設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2017-12-08向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本濺射裝置以及濺射方法在說明書摘要公布了:提供一種濺射裝置以及濺射方法,能夠穩(wěn)定地形成高品質(zhì)的膜。濺射裝置具備能夠在內(nèi)部相互對(duì)置地配置靶材和基板的真空腔、能夠與靶材電連接的直流電源、以及將從直流電源流到靶材的電流脈沖化的脈沖化單元,在真空腔內(nèi)生成等離子體從而在基板上形成薄膜,濺射裝置還具備:電流計(jì),其對(duì)從直流電源流到脈沖化單元的電流進(jìn)行測(cè)量;電源控制器,其對(duì)直流電源進(jìn)行反饋控制,使得由電流計(jì)測(cè)量的電流值成為給定值;以及脈沖控制器,其對(duì)脈沖化單元指示與電源控制器對(duì)直流電源的控制周期錯(cuò)開的脈沖周期。
本發(fā)明授權(quán)濺射裝置以及濺射方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種濺射裝置,具備:真空腔,其能夠在內(nèi)部相互對(duì)置地配置靶材和基板;直流電源,其能夠與所述靶材電連接;以及脈沖化單元,其將從所述直流電源流到所述靶材的電流脈沖化,在所述真空腔內(nèi)生成等離子體從而在所述基板上形成薄膜,所述濺射裝置還具備:電流計(jì),其連接在所述直流電源與所述脈沖化單元之間,對(duì)從所述直流電源流到所述脈沖化單元的電流進(jìn)行測(cè)量;電源控制器,其對(duì)所述直流電源的電壓設(shè)定值進(jìn)行反饋控制,使得由所述電流計(jì)測(cè)量的電流值成為給定值;脈沖控制器,其對(duì)所述脈沖化單元指示與所述電源控制器對(duì)所述直流電源的控制周期錯(cuò)開的脈沖周期;磁體,其配置在所述靶材的與所述基板對(duì)置的面相反側(cè)的背面;旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),其使所述磁體相對(duì)于與所述靶材的所述背面交叉的旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn);以及旋轉(zhuǎn)控制器,其控制所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),所述旋轉(zhuǎn)控制器與所述脈沖控制器連接,能夠接受旋轉(zhuǎn)的指示值而設(shè)定為給定的旋轉(zhuǎn)速度。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人松下知識(shí)產(chǎn)權(quán)經(jīng)營(yíng)株式會(huì)社,其通訊地址為:日本國(guó)大阪府;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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