買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監(jiān)控用IP管家,真方便！

龍圖騰網(wǎng)恭喜北京珂陽科技有限公司申請的專利基于大數(shù)據(jù)分析晶圓制造中缺陷的方法及系統(tǒng)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN119580022B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-18發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202510143211.9，技術領域涉及：G06V10/764；該發(fā)明授權(quán)基于大數(shù)據(jù)分析晶圓制造中缺陷的方法及系統(tǒng)是由李清生;李樹盛;鄭麗華設計研發(fā)完成，并于2025-02-10向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本基于大數(shù)據(jù)分析晶圓制造中缺陷的方法及系統(tǒng)在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供基于大數(shù)據(jù)分析晶圓制造中缺陷的方法及系統(tǒng)，涉及大數(shù)據(jù)技術領域，包括采集工藝參數(shù)信息、缺陷掃描圖像、制造過程數(shù)據(jù)信息并經(jīng)過多尺度特征金字塔網(wǎng)絡處理和融合后得到融合特征；對融合特征通過深度學習網(wǎng)絡進行分析，所述深度學習網(wǎng)絡采用多任務學習框架同時完成缺陷分類任務、缺陷分割任務、缺陷演化預測任務，并引入基于圖匹配的一致性損失，獲取缺陷類型識別結(jié)果及缺陷空間分布的特征圖譜；基于特征圖譜，當檢測到工藝參數(shù)異常時，利用包含時間序列注意力機制的圖神經(jīng)網(wǎng)絡分析歷史缺陷數(shù)據(jù)；結(jié)合專家知識庫設定工藝參數(shù)約束條件，采用強化學習方法對工藝參數(shù)進行自適應調(diào)整。本發(fā)明提高了缺陷檢測和分類的準確性。

本發(fā)明授權(quán)基于大數(shù)據(jù)分析晶圓制造中缺陷的方法及系統(tǒng)在權(quán)利要求書中公布了：1.基于大數(shù)據(jù)分析晶圓制造中缺陷的方法，其特征在于，包括：采集晶圓制造的工藝參數(shù)信息，包括光刻工藝對準參數(shù)、光刻膠涂覆厚度參數(shù)、曝光能量參數(shù)、刻蝕氣體流量參數(shù)、射頻功率參數(shù)、偏壓電壓參數(shù)、薄膜沉積速率參數(shù)及腔室壓力參數(shù)；通過多個分布式缺陷檢測設備采集晶圓表面的缺陷掃描圖像；采集制造過程數(shù)據(jù)信息，包括工藝良率信息、晶圓電性測試信息及設備狀態(tài)信息；對缺陷掃描圖像利用包含可變形卷積模塊的多尺度特征金字塔網(wǎng)絡提取缺陷特征，將所述缺陷特征、工藝參數(shù)信息及制造過程數(shù)據(jù)信息進行融合得到融合特征；對融合特征通過深度學習網(wǎng)絡進行分析，所述深度學習網(wǎng)絡采用多任務學習框架同時完成缺陷分類任務、缺陷分割任務、缺陷演化預測任務，并引入基于圖匹配的一致性損失，建立不同批次缺陷樣本間的關聯(lián)，獲取缺陷類型識別結(jié)果及缺陷空間分布的特征圖譜；基于所述特征圖譜，利用包含因果推理模塊的異常監(jiān)測網(wǎng)絡構(gòu)建工藝參數(shù)變化與缺陷分布演化的因果圖，根據(jù)所述因果圖檢測工藝參數(shù)異常，當檢測到工藝參數(shù)異常時，利用包含時間序列注意力機制的圖神經(jīng)網(wǎng)絡分析歷史缺陷數(shù)據(jù)，所述圖神經(jīng)網(wǎng)絡通過動態(tài)圖結(jié)構(gòu)捕獲缺陷分布的演化規(guī)律；并根據(jù)所述因果圖和演化規(guī)律，結(jié)合專家知識庫設定工藝參數(shù)約束條件，采用強化學習方法對工藝參數(shù)進行自適應調(diào)整。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人北京珂陽科技有限公司，其通訊地址為：100176 北京市通州區(qū)經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)西環(huán)南路26號院30號樓(嘉捷科技園A座)6層-605；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。