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龍圖騰網恭喜中國核電工程有限公司申請的專利一種混合K邊吸收-X射線熒光分析方法和設備獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN117191842B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202311021784.1，技術領域涉及：G01N23/2206；該發明授權一種混合K邊吸收-X射線熒光分析方法和設備是由馬敬;楊菡;劉權衛;房映彤;王志強;趙宇菲;秦永泉;陳勇;陳靖;李力;張兆清;王志恒設計研發完成，并于2023-08-14向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種混合K邊吸收-X射線熒光分析方法和設備在說明書摘要公布了：本發明公開了一種混合K邊吸收?X射線熒光分析方法，采用X射線照射待測樣品，以使待測樣品產生鈾K邊界吸收，以及激發出待測樣品鈾、钚的L系特征熒光，根據經過待測樣品鈾K邊界吸收后的X射線獲得待測樣品中鈾的吸收譜，根據吸收譜和X射線空白譜從而得到鈾濃度；根據待測樣品鈾、钚的L系特征熒光獲得待測樣品中鈾、钚的L系熒光峰面積關系，從而得到鈾钚濃度比，進而獲得待測樣品的钚濃度。本發明的混合K邊吸收?X射線熒光分析方法能夠破除應用范圍限制，有效提高分析結果準確度，并有效降低X射線散射影響。本發明還提供一種混合K邊吸收?X射線熒光分析設備。

本發明授權一種混合K邊吸收-X射線熒光分析方法和設備在權利要求書中公布了：1.一種混合K邊吸收-X射線熒光分析方法，其特征在于，包括以下步驟：采用X射線照射待測樣品53，以使待測樣品53產生鈾K邊界吸收，以及激發出待測樣品53鈾、钚的L系特征熒光；還能夠激發出待測樣品53鈾、钚的K系特征熒光；根據經過待測樣品53鈾K邊界吸收后的X射線獲得待測樣品53中鈾的吸收譜；根據待測樣品53鈾、钚的L系特征熒光獲得待測樣品53中鈾、钚的L系熒光峰面積關系；根據待測樣品53中鈾的吸收譜和X射線的空白譜獲得待測樣品53的鈾濃度；根據待測樣品53中鈾、钚的L系熒光峰面積關系獲得待測樣品53的第一鈾钚濃度比；根據待測樣品53的鈾濃度和待測樣品53的第一鈾钚濃度比獲得待測樣品53的第一钚濃度；根據待測樣品53鈾、钚的K系特征熒光獲得待測樣品53中鈾、钚的K系熒光峰面積關系；根據待測樣品53中鈾、钚的K系熒光峰面積關系獲得待測樣品53的第二鈾钚濃度比；根據待測樣品53的鈾濃度和待測樣品53的第二鈾钚濃度比獲得待測樣品53的第二钚濃度；當第一鈾钚濃度比大于設定比值時，取待測樣品53的第一钚濃度作為待測樣品53的钚濃度數值；當第一鈾钚濃度比不大于設定比值時，取待測樣品53的第一钚濃度第二钚濃度作為待測樣品53的钚濃度數值。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中國核電工程有限公司，其通訊地址為：100840 北京市海淀區西三環北路117號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。