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龍圖騰網(wǎng)獲悉合肥晶合集成電路股份有限公司申請(qǐng)的專(zhuān)利背照式半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)鍵合方法及背照式圖像傳感器獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN119317213B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-03-25發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：202411834113.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10F39/18；該發(fā)明授權(quán)背照式半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)鍵合方法及背照式圖像傳感器是由陶磊設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2024-12-13向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本背照式半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)鍵合方法及背照式圖像傳感器在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本公開(kāi)涉及提供了一種背照式半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)鍵合方法及背照式圖像傳感器，方法包括：提供器件晶圓及承載晶圓；器件晶圓包括器件層及位于器件層、襯底之間的外延層；器件層包括光電二極管陣列；在器件層的頂面沉積第一介質(zhì)層，平坦化處理第一介質(zhì)層的頂面后，獲取平坦化后第一介質(zhì)層的頂面的中部區(qū)域與環(huán)繞該中部區(qū)域的外圍區(qū)域的高度差；于研磨后第三介質(zhì)層的頂面沉積第一厚度的第四介質(zhì)層；化學(xué)機(jī)械研磨處理第四介質(zhì)層，去除第二厚度的第四介質(zhì)層，第二厚度小于第一厚度；將研磨后第四介質(zhì)層的頂面與承載晶圓的正面鍵合，至少可以降低鍵合晶圓的翹曲程度，降低鍵合界面的氣泡數(shù)量，提高器件良率。

本發(fā)明授權(quán)背照式半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)鍵合方法及背照式圖像傳感器在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種背照式半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)鍵合方法，其特征在于，所述方法包括：提供器件晶圓及承載晶圓；所述器件晶圓包括器件層及位于所述器件層、襯底之間的外延層；所述器件層包括光電二極管陣列；在所述器件層的頂面沉積第一介質(zhì)層，平坦化處理所述第一介質(zhì)層的頂面后，獲取平坦化后第一介質(zhì)層的頂面的中部區(qū)域與環(huán)繞該中部區(qū)域的外圍區(qū)域的高度差；于所述平坦化后第一介質(zhì)層的頂面沉積第二介質(zhì)層后，于所述第二介質(zhì)層的頂面形成預(yù)設(shè)厚度的第三介質(zhì)層；其中，在相同的研磨條件下，所述第三介質(zhì)層的去除速率大于所述第二介質(zhì)層的去除速率；對(duì)所述第三介質(zhì)層的頂面執(zhí)行化學(xué)機(jī)械研磨工藝，使得研磨后第三介質(zhì)層的頂面臺(tái)階差小于目標(biāo)值；所述預(yù)設(shè)厚度為所述高度差與所述第三介質(zhì)層的研磨去除量之和，所述第三介質(zhì)層的研磨去除量與所述頂面臺(tái)階差相關(guān)；所述頂面臺(tái)階差為研磨后第三介質(zhì)層的頂面的最高點(diǎn)與最低點(diǎn)之間的高度差；于研磨后第三介質(zhì)層的頂面沉積第一厚度的第四介質(zhì)層；化學(xué)機(jī)械研磨處理所述第四介質(zhì)層，去除第二厚度的第四介質(zhì)層，所述第二厚度小于所述第一厚度；將研磨后第四介質(zhì)層的頂面與所述承載晶圓的正面鍵合。

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