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龍圖騰網(wǎng)恭喜英諾賽科(蘇州)半導(dǎo)體有限公司申請(qǐng)的專(zhuān)利一種功率器件及其制備方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN119384003B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-03-25發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：202411959341.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10D30/47；該發(fā)明授權(quán)一種功率器件及其制備方法是由趙杰;陳扶;劉艷設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2024-12-30向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本一種功率器件及其制備方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明公開(kāi)了一種功率器件及其制備方法，功率器件包括：外延結(jié)構(gòu)包括有源區(qū)和邊緣區(qū)，邊緣區(qū)環(huán)繞有源區(qū)；邊緣區(qū)包括第一邊緣區(qū)和第二邊緣區(qū)，外延結(jié)構(gòu)的第一邊緣區(qū)為電隔離區(qū)域；第二邊緣區(qū)內(nèi)的溝道層與勢(shì)壘層的界面處具有導(dǎo)電溝道；摻雜的氮化物半導(dǎo)體層包括相互連接的第一區(qū)域和第二區(qū)域；第一區(qū)域覆蓋外延結(jié)構(gòu)的部分有源區(qū)，第二區(qū)域在勢(shì)壘層的垂直投影位于第二邊緣區(qū)的導(dǎo)電溝道內(nèi)，第二邊緣區(qū)的導(dǎo)電溝道的邊緣與第二區(qū)域的邊緣在勢(shì)壘層的垂直投影之間的距離大于第一預(yù)設(shè)值；鈍化層包括第一溝槽和第二溝槽；源極位于第一溝槽內(nèi)，漏極位于第二溝槽內(nèi)。本發(fā)明可以降低柵極漏電，提高器件的可靠性。

本發(fā)明授權(quán)一種功率器件及其制備方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種功率器件，其特征在于，包括：外延結(jié)構(gòu)，所述外延結(jié)構(gòu)包括依次層疊設(shè)置的襯底、緩沖層、溝道層和勢(shì)壘層；所述外延結(jié)構(gòu)包括有源區(qū)和邊緣區(qū)，所述邊緣區(qū)環(huán)繞有源區(qū)；所述邊緣區(qū)包括第一邊緣區(qū)和第二邊緣區(qū)，所述外延結(jié)構(gòu)的第一邊緣區(qū)為電隔離區(qū)域；所述第二邊緣區(qū)內(nèi)的所述溝道層與所述勢(shì)壘層的界面處具有導(dǎo)電溝道；摻雜的氮化物半導(dǎo)體層，所述摻雜的氮化物半導(dǎo)體層位于所述勢(shì)壘層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)；所述摻雜的氮化物半導(dǎo)體層包括相互連接的第一區(qū)域和第二區(qū)域；所述第一區(qū)域覆蓋所述外延結(jié)構(gòu)的部分有源區(qū)，所述第二區(qū)域在所述勢(shì)壘層的垂直投影位于所述第二邊緣區(qū)的導(dǎo)電溝道內(nèi)，所述第二邊緣區(qū)的導(dǎo)電溝道的邊緣與所述第二區(qū)域的邊緣在所述勢(shì)壘層的垂直投影之間的距離大于第一預(yù)設(shè)值；鈍化層，所述鈍化層位于所述摻雜的氮化物半導(dǎo)體層遠(yuǎn)離所述外延結(jié)構(gòu)的一側(cè)；所述鈍化層包括第一溝槽和第二溝槽，所述第一溝槽在所述外延結(jié)構(gòu)上的垂直投影與所述有源區(qū)交疊，所述第二溝槽在所述外延結(jié)構(gòu)上的垂直投影與所述有源區(qū)交疊；源極和漏極，所述源極位于所述第一溝槽內(nèi)，所述漏極位于所述第二溝槽內(nèi)。

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