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龍圖騰網(wǎng)恭喜應用材料公司申請的專利用于改進的熱傳遞和溫度均勻性的加熱的基座設計獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN111463146B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產權局官網(wǎng)在2025-03-21發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：201911327919.0，技術領域涉及：H01L21/67；該發(fā)明授權用于改進的熱傳遞和溫度均勻性的加熱的基座設計是由V·S·C·帕里米;Z·黃;J·李;S·拉達克里什南;程睿;D·N·凱德拉亞;J·C·羅查;U·M·科爾卡;K·杰納基拉曼;S·M·博貝克;P·K·庫爾施拉希薩;V·K·普拉巴卡爾;B·S·權設計研發(fā)完成，并于2019-12-20向國家知識產權局提交的專利申請。

本用于改進的熱傳遞和溫度均勻性的加熱的基座設計在說明書摘要公布了：本公開內容的實施方式總體上涉及一種基座，所述基座用于增加支撐在其上的基板中的溫度均勻性。所述基座包括主體，所述主體中嵌入有加熱器。所述主體包括圖案化的表面，所述圖案化的表面包括第一區(qū)域和圍繞所述中心區(qū)域的第二區(qū)域，所述第一區(qū)域具有在第一高度從所述主體的基底表面延伸的第一多個柱，所述第二區(qū)域具有在大于第一高度的第二高度從基底表面延伸的第二多個柱，其中所述第一多個柱和所述第二多個柱中的每一者的上表面基本上共面并且限定基板接收表面。

本發(fā)明授權用于改進的熱傳遞和溫度均勻性的加熱的基座設計在權利要求書中公布了：1.一種基座，所述基座包括：主體，所述主體具有設置在所述主體中的加熱器，其中所述主體包括：圖案化的表面，所述圖案化的表面包括：第一區(qū)域，所述第一區(qū)域具有以第一高度從所述主體的基底表面延伸的第一多個柱；以及第二區(qū)域，所述第二區(qū)域圍繞所述第一區(qū)域，所述第二區(qū)域具有以大于所述第一高度的第二高度從所述基底表面延伸的第二多個柱，其中所述第一多個柱和所述第二多個柱中的每一者的上表面以螺旋形圖案布置、為共面的并且限定基板接收表面，當在所述基底表面和支撐在所述圖案化的表面之上的基板之間施加氣體時所述螺旋形圖案防止直線流動路徑，并且其中所述圖案化的表面包括一個或多個裸位置，所述一個或多個裸位置設置在所述第一多個柱和所述第二多個柱之間。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯(lián)系本專利的申請人或專利權人應用材料公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。