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龍圖騰網(wǎng)恭喜陽光技術(shù)有限責(zé)任公司申請的專利采用氣體偏轉(zhuǎn)器板的制造物品、系統(tǒng)和方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114145078B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-03-21發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202080052038.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H05H13/00；該發(fā)明授權(quán)采用氣體偏轉(zhuǎn)器板的制造物品、系統(tǒng)和方法是由阿爾內(nèi)·V·科別爾尼克;布蘭登·A·杰克遜;托馬斯·C·邦德;泰伊·格瑞布;羅斯·F·拉德爾設(shè)計研發(fā)完成，并于2020-07-16向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本采用氣體偏轉(zhuǎn)器板的制造物品、系統(tǒng)和方法在說明書摘要公布了：本文提供了在使用差動泵送的低真空至超高真空系統(tǒng)例如，氣體靶粒子加速器、質(zhì)譜儀、和無窗遞送端口中采用氣體偏轉(zhuǎn)器板的制造物品、系統(tǒng)和方法。在某些實(shí)施方式中，氣體偏轉(zhuǎn)器板構(gòu)造成定位在加壓系統(tǒng)中的較高壓力區(qū)域與較低壓力區(qū)域之間，其中氣體偏轉(zhuǎn)器板具有穿過該氣體偏轉(zhuǎn)器板的通道，該通道被成形和或成角度成使得：移動通過該通道的噴射氣體以相對于氣體偏轉(zhuǎn)器板和或通道的豎向軸線偏移的角度進(jìn)入較低壓力區(qū)域。在其他實(shí)施方式中，采用射流偏轉(zhuǎn)器部件，使得噴射氣體撞擊這種射流偏轉(zhuǎn)器部件并被重新引導(dǎo)成沿另一方向。

本發(fā)明授權(quán)采用氣體偏轉(zhuǎn)器板的制造物品、系統(tǒng)和方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種采用氣體偏轉(zhuǎn)器板的制造物品，包括：氣體偏轉(zhuǎn)器板，其中，所述氣體偏轉(zhuǎn)器板包括頂部表面、底部表面和延伸穿過所述氣體偏轉(zhuǎn)器板的通道，其中，所述氣體偏轉(zhuǎn)器板具有：i縱向軸線和橫向軸線，所述縱向軸線和橫向軸線延伸穿過所述氣體偏轉(zhuǎn)器板且平行于所述頂部表面和所述底部表面，以及ii與所述縱向軸線和橫向軸線垂直的豎向軸線，其中，所述氣體偏轉(zhuǎn)器板構(gòu)造成定位在加壓系統(tǒng)中的較高壓力區(qū)域與較低壓力區(qū)域之間，使得所述頂部表面面向所述較低壓力區(qū)域并且所述底部表面面向所述較高壓力區(qū)域，其中，所述通道包括：i位于所述氣體偏轉(zhuǎn)器板的所述頂部表面中的頂部開口，和ii位于所述氣體偏轉(zhuǎn)器板的所述底部表面中的底部開口，所述頂部開口包括不對稱開口，所述不對稱開口由所述通道的第一部分和第二部分形成，所述第一部分在所述不對稱開口上與所述第二部分相對，相比于所述第一部分，所述第二部分相對于所述豎向軸線偏移的角度更大，以及其中，所述通道被成形和或成角度成使得：從所述較高壓力區(qū)域穿過所述通道移動至所述較低壓力區(qū)域的噴射氣體以相對于所述豎向軸線偏移的角度進(jìn)入所述較低壓力區(qū)域。

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