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龍圖騰網恭喜浙江大學申請的專利一種表面增強紅外吸收襯底及其制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114804010B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210394573.1，技術領域涉及：B81C1/00；該發明授權一種表面增強紅外吸收襯底及其制備方法是由胡歡;吳少雄;田豐設計研發完成，并于2022-04-14向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種表面增強紅外吸收襯底及其制備方法在說明書摘要公布了：本發明提供了一種表面增強紅外吸收襯底及其制備方法，屬于功能材料技術領域。本發明利用模板微球光刻加等離子體刻蝕的方式，能夠簡單、低成本、大面積的制備表面增強紅外吸收SEIRA襯底，且制備得到的SEIRA襯底中柱體陣列周期性好，保證SEIRA襯底具有較高的增強效率，解決了現有技術中SEIRA襯底無法兼顧低成本和高增強效率的問題。

本發明授權一種表面增強紅外吸收襯底及其制備方法在權利要求書中公布了：1.一種表面增強紅外吸收襯底的制備方法，包括以下步驟：在襯底的單面密鋪單層模板微球，得到單層模板微球層-襯底制件；將所述單層模板微球層-襯底制件進行反應等離子體刻蝕，使所述模板微球的直徑減小，在襯底的單面形成單層減直徑模板微球，得到單層減直徑模板微球層-襯底制件；將所述單層減直徑模板微球層-襯底制件中的襯底進行感應耦合等離子體刻蝕，在所述襯底的單面形成柱體陣列，且所述柱體陣列中柱體的頂端保留有所述減直徑模板微球，得到單層減直徑模板微球層-柱體陣列-襯底制件；所述柱體的高度為0.1～1μm，直徑為140nm～2.8μm，相鄰柱體之間的距離為模板微球直徑的減少量；將所述單層減直徑模板微球層-柱體陣列-襯底制件中減直徑模板微球去除，得到柱體陣列-襯底制件；在所述柱體陣列-襯底制件具有柱體陣列的表面沉積金屬層，得到表面增強紅外吸收襯底；所述金屬層包括疊層設置的粘附層以及功能層，所述粘附層設置在所述柱體陣列-襯底制件與功能層之間；所述粘附層的材質為鈦或鉻，所述功能層的材質為金、鋁、銀、鉑或銅。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人浙江大學，其通訊地址為：310058 浙江省杭州市西湖區余杭塘路866號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。