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  • 本發明公開了一種基于非局部先驗和局部先驗的深度圖像超分辨重建方法。本方法主要包括下述步驟：首先對高分辨率訓練圖像集進行分塊處理，并對每個圖像塊根據歐式距離尋找其M個相似塊組成相似塊，用相似塊組通過EM算法進行學習的高斯混合模型，從而提取訓練...
  • 本申請公開了一種二氧化碳埋存的安全性確定方法、裝置、設備及存儲介質，屬于油氣田開發技術領域。針對目標區域的二氧化碳埋存，本申請在建立地質模型和數值模擬模型的基礎上，還會對影響二氧化碳泄漏量的參數進行敏感性分析，即本申請會確定各項參數對二氧化...
  • 本發明涉及天然氣余壓發電領域，公開了一種天然氣余壓發電基準線排放計算方法、存儲介質及計算裝置。本發明公開的天然氣余壓發電基準線排放計算方法，包括：確定基準線排放量的計算時間段，所述計算時間段內包括多個時間單元；根據各時間單元確定時間相關因子...
  • 一種生產流程歸類方法及系統、存儲介質及終端，其中方法包括：獲取若干生產流程的流程文本數據，每個生產流程包括若干生產步驟，流程文本數據包括每個生產步驟的步驟文本數據；建立空間向量模型，空間向量模型包括n維度的特征參數，每個維度的特征參數由數字...
  • 本申請屬于智能家電技術領域，提供一種參數校驗方法、裝置、設備和計算機存儲介質。獲取家用電器的標準參數表及標準參數表轉化得到的初版標準代碼，隨后，獲取功能優化信息并根據所述功能優化信息修改電腦板中的初版標準代碼，得到優化標準代碼；控制所述家用...
  • 本發明公開了一種程序調試的方法和裝置，涉及軟件測試技術領域。該方法的一具體實施方式包括：響應于接收到程序的本地調試請求，從預先錄制的數據文件中獲取所述程序對應的線上錄制數據；通過對所述線上錄制數據的數據回放處理來運行所述程序，以便進行所述程...
  • 本申請提供一種控制方法及裝置，控制方法包括：根據可移動平臺移動作業的路徑信息生成初始作業軌跡；獲取所述可移動平臺移動作業的過程中多個作業模塊的作業狀態信息；將多個所述作業模塊的所述作業狀態信息疊加于所述初始作業軌跡，用以對多個所述作業模塊在...
  • 本發明公開了一種紡織品水溶液中纖維微塑料的顯微鏡測定方法，涉及環境污染物檢測技術領域，包括：采集水樣；配制尼羅紅染色液；將配制好的尼羅紅染色液加入水樣對其進行熒光染色；用放置了玻璃纖維濾膜的微量玻璃抽濾裝置對熒光染色后水樣進行過濾；用丙酮溶...
  • 本發明涉及催化劑領域及高分子材料回收利用領域，公開了一種復合分子篩催化劑及其制備方法以及在廢塑料直接催化裂解制低碳烯烴反應中的應用。該復合分子篩催化劑包括SSZ?13分子篩、類球形超大孔介孔分子篩和金屬氧化物，類球形超大孔介孔分子篩的比表面...
  • 本申請提供一種顯示裝置，包括驅動基板、第一發光單元、第二發光單元和第三發光單元。第一發光單元鍵合在驅動基板的一側且包括第一陽極、第一發光層、第一陰極和連接第一陽極的第一接觸孔，第二發光單元鍵合在第一發光單元背離驅動基板的一側且包括第二陽極、...
  • 本發明公開了一種發光器件的制備方法及發光器件，發光器件的制備方法包括：提供襯底，襯底包括相對的正面和背面；圖形化處理襯底的正面，形成凸起部和凹槽；在凸起部和/或凹槽生長半導體外延層，并在生長半導體外延層過程中摻雜第一元素，以形成多個第一發光...
  • 本發明公開了一種發光器件的制備方法及發光器件，發光器件的制備方法包括：提供襯底；于襯底的正面形成第一掩膜層，并圖形化處理第一掩膜層，以在第一掩膜層中形成多個正面掩膜開口；基于圖形化處理后的第一掩膜層，在襯底的正面生長半導體外延層，并在生長半...
  • 本發明公開了一種AlGaN基深紫外發光二極管注入結構及應用。本發明提供的注入結構為周期性結構，每個周期結構包括如下組成：Al組分占比漸變的p?AlmGa1?mN層；每個周期結構中，Al組分占比m沿...
  • 本申請提供一種光電探測器及其制備方法。該光電探測器包括：第一光波導，其設置于襯底的表面，沿第一方向延伸；第一摻雜區，其具有第一摻雜類型，在第二方向上位于該第一光波導的一側；以及第二摻雜區，其具有不同于該第一摻雜類型的第二摻雜類型，在該第二方...
  • 本發明公開一種薄膜晶體管基板及包括其的電子裝置，其中該薄膜晶體管基板包括：基板、設置在基板上的第一金屬層、設置在第一金屬層上的第二金屬層、設置在基板與第一金屬層之間的半導體、以及設置于第一金屬層與第二金屬層之間第一絕緣層。第一金屬層包括柵極...
  • 本發明涉及一種半導體結構及其制造方法、電子設備。半導體結構的制造方法包括：提供襯底；于襯底上形成第一垂直晶體管；于第一垂直晶體管上沉積一層或多層層間絕緣介質材料層，對一層或多層層間絕緣介質材料層進行等離子體處理，以形成一層或多層層間絕緣介質...
  • 本發明公開了一種溝槽結構的制造方法，該溝槽結構的制造方法包括提供一待處理的半導體基底，該半導體基底包括半導體襯底以及間隔形成于半導體襯底的表面的上方的柵極結構，相鄰柵極結構之間的半導體襯底中形成有溝槽結構，通入六氟化硫等離子體對溝槽結構進行...
  • 本發明公開了一種半導體裝置及其制造方法，該半導體裝置包括一基底，具有一第一表面和一第二表面；一閘極接墊和一源極接墊，彼此側向分離，均設置于基底的第一表面之上；一汲極區，設置于基底的第二表面；一第一溝槽，設置于基底中，位于閘極接墊的正下方；一...
  • 本公開涉及一種表面硒摻雜的高鎳三元材料及其制備方法和應用，所述表面硒摻雜的高鎳三元材料包含化學式為LiNixCoyMnzO2?pSep
  • 本申請提供一種顯示背板、背板制作方法及顯示設備。該顯示背板包括：基板；多顆IC，多顆所述IC間隔排列在所述基板上，每一所述IC的引腳背向所述基板；顯示層，所述顯示層設于所述IC上，所述顯示層包括多顆LED，至少一顆所述LED與一顆所述IC通...
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