恭喜東京毅力科創(chuàng)株式會社山下陽平獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜東京毅力科創(chuàng)株式會社申請的專利基板處理方法和基板處理裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114830295B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-10發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202080087508.3，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/02；該發(fā)明授權(quán)基板處理方法和基板處理裝置是由山下陽平;田之上隼斗;溝本康隆設(shè)計研發(fā)完成，并于2020-12-09向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本基板處理方法和基板處理裝置在說明書摘要公布了：一種方法，用于在將第一基板與第二基板接合而成的重合基板中將形成于所述第二基板的表面的器件層轉(zhuǎn)印于所述第一基板，在所述方法中，從所述第二基板的背面?zhèn)葘π纬捎谠摰诙迮c所述器件層之間的激光吸收層脈沖狀地照射激光。
本發(fā)明授權(quán)基板處理方法和基板處理裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基板處理方法，是在將第一基板與第二基板接合而成的重合基板中將形成于所述第二基板的表面的器件層轉(zhuǎn)印于所述第一基板的基板處理方法，在所述基板處理方法中，從所述第二基板的背面?zhèn)葘π纬捎谒龅诙迮c所述器件層之間的激光吸收層脈沖狀地照射激光，在所述激光吸收層的外周部，一邊使所述重合基板旋轉(zhuǎn)一邊照射所述激光，在處于所述外周部的徑向內(nèi)側(cè)的中央部，在使所述重合基板的旋轉(zhuǎn)停止了的狀態(tài)下使所述激光進行掃描。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人東京毅力科創(chuàng)株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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1、本報告根據(jù)公開、合法渠道獲得相關(guān)數(shù)據(jù)和信息，力求客觀、公正，但并不保證數(shù)據(jù)的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結(jié)論僅反映本公司于發(fā)布本報告當日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據(jù)或者憑證。
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