買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監控用IP管家,真方便！

龍圖騰網恭喜三星SDI株式會社申請的專利半導體光致抗蝕劑組成物及使用其形成圖案的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115668056B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-10發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180036970.5，技術領域涉及：G03F7/004；該發明授權半導體光致抗蝕劑組成物及使用其形成圖案的方法是由文京守;姜恩美;金宰賢;金智敏;金兌鎬;禹昌秀;田桓承;蔡承龍;韓承設計研發完成，并于2021-08-20向國家知識產權局提交的專利申請。

本半導體光致抗蝕劑組成物及使用其形成圖案的方法在說明書摘要公布了：本發明涉及一種半導體光致抗蝕劑組成物及使用所述半導體光致抗蝕劑組成物形成圖案的方法。所述半導體光致抗蝕劑組成物包含溶劑及由化學式1表示的有機金屬化合物。化學式1的具體細節如在說明書中所定義。所述半導體光致抗蝕劑組成物可提供具有優異極限解析度并且即使具有高縱橫比亦不會塌陷的光致抗蝕劑圖案。[化學式1]

本發明授權半導體光致抗蝕劑組成物及使用其形成圖案的方法在權利要求書中公布了：1.一種半導體光致抗蝕劑組成物，包含由化學式1表示的有機金屬化合物及溶劑，其中以100重量％的所述半導體光致抗蝕劑組成物計，包含1重量％至30重量％的由所述化學式1表示的所述有機金屬化合物：[化學式1] 其中，在所述化學式1中，R為經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、包含至少一個雙鍵或三鍵的經取代或未經取代的C2至C20脂族不飽和有機基、經取代或未經取代的C6至C30芳基、乙氧基、丙氧基、-C＝OR1或其組合，其中R1為氫或經取代或未經取代的C1至C20烷基，X、Y及Z各自獨立地為-ORa、-SRb、-OC＝ORc或-SC＝ORd，Ra及Rb各自獨立地為經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C2至C20烯基、經取代或未經取代的C2至C20炔基、經取代或未經取代的C6至C30芳基或其組合，且Rc及Rd各自獨立地為氫、經取代或未經取代的C1至C20烷基、經取代或未經取代的C3至C20環烷基、經取代或未經取代的C2至C20烯基、經取代或未經取代的C2至C20炔基、經取代或未經取代的C6至C30芳基或其組合。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人三星SDI株式會社，其通訊地址為：韓國京畿道龍仁市器興區貢稅路150-20號(郵遞區號:17084)；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。