恭喜ASML荷蘭有限公司K·W·張獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜ASML荷蘭有限公司申請的專利光束的空間調制獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN111955058B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-17發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:201980024259.0,技術領域涉及:H05G2/00;該發明授權光束的空間調制是由K·W·張;M·A·珀維斯;C·A·斯廷森設計研發完成,并于2019-03-20向國家知識產權局提交的專利申請。
本光束的空間調制在說明書摘要公布了:一種系統包括空間調制設備,其被配置為與光束相互作用以創建經修改光束,該經修改光束包括沿垂直于該經修改光束的傳播方向的方向具有非均一強度的光的空間圖案,該光的空間圖案包括一個或多個光分量;和目標供應系統,其被配置為向目標區域提供目標,該目標包括目標材料,所述目標材料在處于等離子體狀態時發射EUV光。該目標區域與束路徑重疊,使得該經修改束中的一個或多個光分量中的至少一些光分量與該目標的一部分進行相互作用。
本發明授權光束的空間調制在權利要求書中公布了:1.一種形成用于極紫外EUV光源的目標的系統,包括: 空間調制設備,其被配置為與光束相互作用以創建經修改光束,所述經修改光束包括沿垂直于所述經修改光束的傳播方向的方向具有非均一強度的光的空間圖案,所述光的空間圖案包括光分量,所述光分量是空間相隔且空間分立的,并且以網格布置;和 目標供應系統,其被配置為向目標區域提供目標,所述目標包括目標材料,所述目標材料在處于等離子體狀態時發射EUV光,其中所述目標區域與束路徑重疊,使得所述經修改光束中的所述一個或多個光分量中的至少一些光分量與所述目標的一部分進行相互作用。
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