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龍圖騰網(wǎng)恭喜慕德微納(杭州)科技有限公司申請(qǐng)的專利一種漸變膜層的加工方法、以及漸變深度微納結(jié)構(gòu)的加工方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN119846754B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-03發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202510340263.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G02B5/00；該發(fā)明授權(quán)一種漸變膜層的加工方法、以及漸變深度微納結(jié)構(gòu)的加工方法是由仇旻;杜凱凱;蔡璐;章浙烽;尹建軍設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-03-21向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種漸變膜層的加工方法、以及漸變深度微納結(jié)構(gòu)的加工方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及一種漸變膜層的加工方法、以及漸變深度微納結(jié)構(gòu)的加工方法，漸變膜層的加工方法包括以下步驟，在襯底表面固定一平面膜層；通過漸變鍍膜和或曝光顯影，在平面膜層表面形成一厚度漸變的犧牲膜層；基于刻蝕選擇比，通過干法刻蝕，依次去除漸變表面以上的犧牲膜層和平面膜層，得到帶有漸變膜層的襯底；漸變深度微納結(jié)構(gòu)的加工方法包括以下步驟，在漸變膜層表面形成光刻膠膜，并對(duì)漸變結(jié)構(gòu)區(qū)域的光刻膠膜進(jìn)行圖案化；通過刻蝕去膠，依次去除漸變結(jié)構(gòu)區(qū)域的光刻膠膜和漸變膜層，刻蝕結(jié)束后經(jīng)后處理，得到漸變深度微納結(jié)構(gòu)。本發(fā)明具有提高加工靈活度、增大漸變膜層的厚度調(diào)控范圍、制得連續(xù)深度變化的漸變深度微納結(jié)構(gòu)的效果。

本發(fā)明授權(quán)一種漸變膜層的加工方法、以及漸變深度微納結(jié)構(gòu)的加工方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種漸變膜層的加工方法，其特征在于：包括以下步驟，S11準(zhǔn)備一襯底，在所述襯底表面固定一平面膜層；S12通過漸變鍍膜和或曝光顯影，在所述平面膜層表面形成一厚度漸變的犧牲膜層，且所述平面膜層和犧牲膜層之間存在刻蝕選擇比；S13基于所述刻蝕選擇比，通過干法刻蝕，依次去除漸變表面以上的所述犧牲膜層和平面膜層，刻蝕結(jié)束后經(jīng)后處理，得到帶有漸變膜層的襯底。

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