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恭喜弗薩姆材料美國有限責任公司H·錢德拉獲國家專利權

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龍圖騰網恭喜弗薩姆材料美國有限責任公司申請的專利用于沉積膜的方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114867888B

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-30發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202080090123.2,技術領域涉及:C23C16/455;該發明授權用于沉積膜的方法是由H·錢德拉;雷新建;D·P·思朋斯;蕭滿超;R·M·皮爾斯坦;M·R·麥克唐納;M·B·拉奧設計研發完成,并于2020-12-22向國家知識產權局提交的專利申請。

用于沉積膜的方法在說明書摘要公布了:本發明公開了一種用于將膜沉積到襯底的表面特征中的原子層沉積方法。所述方法可以包括將具有表面特征的襯底放置到反應器中的步驟。有機鈍化劑可引入所述反應器中,其可與表面特征內的一部分暴露的羥基反應。隨后,可以吹掃未反應的有機鈍化劑,并且然后可以引入前體。前體可與未與有機鈍化劑相互作用的剩余的暴露羥基反應。隨后,可以吹掃未反應的前體,并且可以將氧源或氮源引入所述反應器中以在表面特征內形成膜。

本發明授權用于沉積膜的方法在權利要求書中公布了:1.一種用于將膜沉積到襯底的表面特征中的原子層沉積方法,所述方法包括:a將具有表面特征的所述襯底放置到反應器中,所述表面特征具有暴露的羥基;b將所述反應器加熱到環境溫度至700℃的一個或多個溫度,并任選地將所述反應器保持在100托或更低的壓力下;c將至少一種有機鈍化劑引入所述反應器中以與所述表面特征的一部分所述暴露的羥基反應;d使用惰性氣體從所述反應器吹掃未反應的有機鈍化劑;e引入具有至少一個有機氨基的前體氣體以與所述表面特征的任何未反應的羥基反應;f使用惰性氣體從所述反應器吹掃未反應的前體;g將氧源或氮源引入到所述反應器中;以及h使用惰性氣體吹掃未反應的氧源或氮源和任何副產物,其中重復步驟c至h直到從下至上填充所述表面特征;以及其中所述有機鈍化劑包括至少一種選自原碳酸四甲酯、原碳酸四乙酯、原碳酸四正丙酯、原乙酸三甲酯、原乙酸三乙酯、1,1,1-三乙氧基戊烷、1,1,1-三乙氧基庚烷、原苯甲酸三乙酯、2,2-二乙氧基丙烷、1,1-二乙氧基-1-苯基乙烷、4,4-二乙氧基庚烷、4,4-二乙氧基壬烷、原甲酸三甲酯和原甲酸三正丙酯的化合物;以及其中在步驟c中通過控制室壓力或脈沖時間或有機鈍化劑的蒸氣通量來引入所述至少一種有機鈍化劑以與所述表面特征的頂部表面區域上的那些羥基反應,從而允許具有至少一個有機氨基的前體氣體在步驟e中與所述表面特征的底部上的那些未反應的羥基反應以錨定含硅或金屬的片段。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人弗薩姆材料美國有限責任公司,其通訊地址為:美國亞利桑那州;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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