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恭喜西門子能源國際公司約翰內斯·艾伯特獲國家專利權

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龍圖騰網恭喜西門子能源國際公司申請的專利用于可冷卻的增材制造的結構的照射策略獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115916432B

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-30發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202180049932.3,技術領域涉及:B22F3/11;該發明授權用于可冷卻的增材制造的結構的照射策略是由約翰內斯·艾伯特;奧利·蓋森;奧利弗·赫爾曼設計研發完成,并于2021-06-01向國家知識產權局提交的專利申請。

用于可冷卻的增材制造的結構的照射策略在說明書摘要公布了:說明一種用于提供用于構件10的基于粉末床的增材制造的制造指令的方法。該方法包括:針對要增材制造的層n提供第一照射矢量V1,所述第一照射矢量在通過能量束5、尤其激光或電子束的對應的照射的情況下,引起層的多孔的結構,以及針對跟隨所述層n的要增材制造的層n+1提供第一照射矢量V1,使得所述層n的和所述跟隨的層n+1的多孔的結構12的路徑11至少部分地重疊,以便實現對所制造的構件沿著構造方向Z的穿流。還提出了對應的增材制造方法、對應制造的構件以及計算機程序或計算機程序產品。

本發明授權用于可冷卻的增材制造的結構的照射策略在權利要求書中公布了:1.一種用于提供用于構件10的基于粉末床的增材制造的制造指令的方法,所述方法包括:-針對要增材制造的層n提供第一照射矢量V1,所述第一照射矢量V1在通過能量束5的對應的照射的情況下,引起該層的多孔的結構,以及-針對要增材制造的跟隨該層n的層n+1提供所述第一照射矢量V1,使得該層n的多孔的結構12的路徑11和所述跟隨該層n的層n+1的多孔的結構12的路徑11至少部分地重疊,以便實現對所制造的構件10沿著所述構件10的構造方向Z的穿流,其中所述跟隨該層n的層n+1的第一照射矢量V1相對于該層n的第一照射矢量V1扭轉φ,其中該層n的第一照射矢量V1和所述跟隨該層n的層n+1的第一照射矢量V1在層平面中重疊了小于所述路徑11的橫向延展的量度,和其中針對要增材制造的該層n和或在要增材制造的所述跟隨該層n的層n+1中的照射提供第二照射矢量V2,所述第二照射矢量引起對應的層的稠密結構,其中所述第一照射矢量V1是針對所述構件10的每個層的多個徑向或徑向對稱伸展的照射矢量,并且其中所述跟隨該層n的層的第一照射矢量V1相對于該層的第一照射矢量扭轉φ,和其中,提供另外的照射矢量V3,所述另外的照射矢量V3是針對所述構件10的每個層的多個同心的照射矢量,并且其中所述另外的照射矢量V3引起每個層的至少部分多孔的結構。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人西門子能源國際公司,其通訊地址為:德國慕尼黑;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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