恭喜富士膠片株式會社山田悟獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜富士膠片株式會社申請的專利轉印膜、層疊體的制造方法、電路配線的制造方法、電子器件的制造方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115884875B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-30發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180050843.0，技術領域涉及：B32B27/28；該發明授權轉印膜、層疊體的制造方法、電路配線的制造方法、電子器件的制造方法是由山田悟;野副寬;兩角一真設計研發完成，并于2021-08-19向國家知識產權局提交的專利申請。
本轉印膜、層疊體的制造方法、電路配線的制造方法、電子器件的制造方法在說明書摘要公布了：本發明提供一種不易產生圖案外觀不良的轉印膜、層疊體的制造方法、電路配線的制造方法及電子器件的制造方法。本發明的轉印膜具有臨時支承體及在臨時支承體上配置的樹脂組合物層，樹脂組合物層包含：樹脂；及選自嵌段共聚物及式1所表示的化合物中的至少一個化合物，該嵌段共聚物包含：包含具有式A所表示的基團或式B所表示的基團的結構單元X的嵌段及包含具有聚氧化烯基的結構單元Y的嵌段。
本發明授權轉印膜、層疊體的制造方法、電路配線的制造方法、電子器件的制造方法在權利要求書中公布了：1.一種轉印膜，其具有臨時支承體及在所述臨時支承體上配置的樹脂組合物層，所述樹脂組合物層包含：包含堿溶性樹脂或具備具有被酸分解性基團保護的酸基的結構單元的樹脂中的任意一種的樹脂；及選自嵌段共聚物及式（1）所表示的化合物中的至少一個化合物，該嵌段共聚物包含：包含具有式（A）所表示的基團或式（B）所表示的基團的結構單元X的嵌段及包含具有聚（氧化烯）基的結構單元Y的嵌段，式（A）*-（CH2）m-（CF2）n-CF3式（A）中，m及n分別獨立地表示1～3的整數，*表示鍵合位置，式（B）*-L1-CH（CF3）-CF3式（B）中，L1表示氧原子或亞烷基，*表示鍵合位置，式（1）Z-L2-W式（1）中，Z表示所述式（A）所表示的基團或所述式（B）所表示的基團，L2表示單鍵或2價的連結基團，W表示包含聚（氧化烯）基的基團。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人富士膠片株式會社，其通訊地址為：日本國東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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