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龍圖騰網恭喜浙江理工大學申請的專利一種基于矢量結構光場生成的二次諧波系統裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115061324B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-30發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210593832.3，技術領域涉及：G02F1/35；該發明授權一種基于矢量結構光場生成的二次諧波系統裝置是由劉彩霞;陳瑞品;劉權斌;趙旭;陳思汕設計研發完成，并于2022-05-27向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種基于矢量結構光場生成的二次諧波系統裝置在說明書摘要公布了：本發明公開了一種基于矢量結構光場生成的二次諧波系統裝置，包括激光器、擴束準直組件、4f系統組件、二次諧波晶體組件、二向色鏡、以及CCD相機，準直光束經過4f系統后可獲得第一光場，通過二次諧波晶體組件與二向色鏡后可獲得的光場波長減半，頻率翻倍的二次諧波的第二光場二次諧波，且第二光場可通過調控第一光場可對第二光場中的徑向和角向模態的實現同時轉換，這些結果為更靈活地利用結構化光場對非線性光與物質相互作用進行矢量操縱提供了新的平臺，在紫外微加工、光學操縱和量子光學等相應領域具有潛在的應用前景，該裝置具有靈活調控，安裝方便，價格低廉，適用范圍廣等特點。

本發明授權一種基于矢量結構光場生成的二次諧波系統裝置在權利要求書中公布了：1.一種基于矢量結構光場生成的二次諧波系統裝置，其特征在于：包括激光器A，所述激光器A的右側依次設置有擴束準直組件B、4f系統組件C、二次諧波晶體組件D、二向色鏡E以及CCD相機F；所述激光器A、所述擴束準直組件B、所述4f系統組件C結合生成的第一光場表示為： 其中m,n分別為角向和徑向偏振拓撲荷，是方位角，表示附加相位，ra為束腰半徑，和分別是x方向和y方向上的單位向量，Δθ表示和兩分量之間的相位差，Δθ由所述4f系統組件C中的波片決定，當所述波片為四分之一波片時，可獲得局域線偏分布的第一光場；當所述波片為二分之一波片時，可獲得雜化偏振分布的第一光場；所述第一光場的不同分量均需滿足與所述二次諧波晶體組件D中的晶體相位匹配；所述二次諧波晶體組件D中的晶體為Ⅱ類BBO晶體，偏振性質是e光+o光生成e光；所述第一光場通過所述二次諧波晶體組件D后產生的第二光場二次諧波的極化強度的非線性表達式可描述為其中d22是非線性極化強度的第二項中的非線性系數；經過所述二向色鏡E后可將波長為800nm的所述第一光場過濾掉，只獲得所述第二光場。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人浙江理工大學，其通訊地址為：310000 浙江省杭州市江干區杭州經濟開發區白楊街道；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。