恭喜中科納微真空科技(合肥)有限公司郭江濤獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜中科納微真空科技(合肥)有限公司申請的專利一種磁控濺射設備、旋轉陰極和端頭組件獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN119530742B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-30發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510102698.6,技術領域涉及:C23C14/35;該發明授權一種磁控濺射設備、旋轉陰極和端頭組件是由郭江濤;劉遠暢設計研發完成,并于2025-01-22向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種磁控濺射設備、旋轉陰極和端頭組件在說明書摘要公布了:本發明涉及磁控濺射技術領域,公開了一種磁控濺射設備、旋轉陰極和端頭組件,靶筒安裝法蘭安裝在端頭本體的所述安裝端上,靶筒安裝法蘭中部設有與所述進水通道的出水端對應的開口,靶筒安裝法蘭中部設有圍繞所述開口延伸的環形腔室,環形腔室靠近端頭本體一側設有與出水通道的進水端連通的第一冷卻劑口,環形腔室遠離端頭本體一側設有與靶筒內部空間連通的第二冷卻劑口,第二冷卻劑口位于靶筒安裝法蘭邊緣。在法蘭內部設置環形腔室,進而基于環形腔室將與靶筒內部流道末端連通的第二冷卻劑口設置在法蘭邊緣,保證法蘭邊緣密封效果的同時,使得第二冷卻劑口緊靠靶筒內壁,在充水時靶筒內氣體能夠徹底排出,無排氣死角。
本發明授權一種磁控濺射設備、旋轉陰極和端頭組件在權利要求書中公布了:1.一種端頭組件,其特征在于,包括:端頭本體和靶筒安裝法蘭(202);端頭本體內設有進水通道和出水通道,所述進水通道的出水端和所述出水通道的進水端位于端頭本體的安裝端,靶筒安裝法蘭(202)安裝在端頭本體的所述安裝端上,靶筒安裝法蘭(202)中部設有與所述進水通道的出水端對應的開口,靶筒安裝法蘭(202)中部設有圍繞所述開口延伸的環形腔室,所述環形腔室靠近端頭本體一側設有與所述出水通道的進水端連通的第一冷卻劑口(2021),所述環形腔室遠離端頭本體一側設有與靶筒(205)內部連通的第二冷卻劑口(2022),所述第二冷卻劑口(2022)位于靶筒安裝法蘭(202)邊緣;所述第二冷卻劑口(2022)包括第一進口部(20221)和第二進口部(20222),所述第一進口部(20221)位于靶筒安裝法蘭(202)遠離端頭本體一側端面,所述第二進口部(20222)位于靶筒安裝法蘭(202)外周面。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人中科納微真空科技(合肥)有限公司,其通訊地址為:230088 安徽省合肥市高新區習友路1799號4幢1層和2層;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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