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龍圖騰網(wǎng)恭喜三星顯示有限公司申請的專利掩模組件、用于制造顯示設備的裝置和方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN112779498B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-23發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202010966090.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C14/04；該發(fā)明授權(quán)掩模組件、用于制造顯示設備的裝置和方法是由金柾勛;晉丞民設計研發(fā)完成，并于2020-09-15向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本掩模組件、用于制造顯示設備的裝置和方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種掩模組件、用于制造顯示設備的裝置和方法。根據(jù)一個或多個實施例，掩模組件包括：包括開口和圍繞開口的部分的掩模框架，以及被布置在掩模框架上并且包括第一區(qū)域和第二區(qū)域的掩模，并且沉積材料可穿過與開口相對應的第一區(qū)域，并且第二區(qū)域在第一區(qū)域周圍，并且第一區(qū)域包括沉積開口，并且第二區(qū)域包括虛設開口，虛設開口中的至少一些包括被布置成從連接沉積開口的中心的直線偏離的中心，并且沉積開口中的每一個的寬度與虛設開口中的每一個的寬度相同。

本發(fā)明授權(quán)掩模組件、用于制造顯示設備的裝置和方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種掩模組件，包括：掩模框架，包括開口和圍繞所述開口的部分；以及掩模，被布置在所述掩模框架上，在第一方向上被拉緊，并且包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，其中，沉積材料可穿過與所述開口相對應的所述第一區(qū)域，并且所述第二區(qū)域在所述第一區(qū)域周圍，其中，所述第一區(qū)域包括沉積開口，并且所述第二區(qū)域包括虛設開口，其中，所述虛設開口中的至少一些包括被布置成從連接所述沉積開口的中心的在所述第一方向上延伸的直線偏離的中心，且所述虛設開口中的至少一些與所述沉積開口沿著相同的直線被布置，并且所述沉積開口中的每一個的寬度與所述虛設開口中的每一個的寬度相同。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人三星顯示有限公司，其通訊地址為：韓國京畿道；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。