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龍圖騰網恭喜北京北方華創微電子裝備有限公司申請的專利晶舟、工藝腔室及半導體工藝設備獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112687596B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202011499056.8，技術領域涉及：H01L21/673；該發明授權晶舟、工藝腔室及半導體工藝設備是由孫妍設計研發完成，并于2020-12-17向國家知識產權局提交的專利申請。

本晶舟、工藝腔室及半導體工藝設備在說明書摘要公布了：本發明提供一種晶舟、工藝腔室及半導體工藝設備，該晶舟包括支撐架，支撐架具有多個間隔設置的放片位，晶舟還包括導氣通道，導氣通道具有至少一個進氣口和多個出氣口，進氣口與氣源連通，每個放片位至少對應一個出氣口，出氣口的出氣方向朝向與之對應的放片位的中心區域。應用本發明可以提高wafer片內均勻性及晶舟的利用率。

本發明授權晶舟、工藝腔室及半導體工藝設備在權利要求書中公布了：1.一種工藝腔室，包括腔室主體和設置在所述腔室主體內的晶舟，其特征在于，所述晶舟包括支撐架，所述支撐架具有多個間隔設置的放片位，所述支撐架包括多個支撐件和用于連接相鄰兩個所述支撐件的連接件；多個所述支撐件間隔設置，每個所述支撐件具有多個沿所述支撐件的高度方向間隔設置的所述放片位；所述晶舟還包括導氣通道，所述導氣通道具有至少一個進氣口和多個出氣口，所述進氣口與氣源連通，每個所述放片位對應多個所述出氣口，所述出氣口的出氣方向朝向與之對應的所述放片位的中心區域；所述導氣通道包括主導氣道和與所述主導氣道連通的多個支導氣道，所述主導氣道的入口用作所述導氣通道的進氣口；每個所述放片位至少對應一個所述支導氣道，所述支導氣道呈弧形，每個所述支導氣道沿周向設置多個所述出氣口；所述晶舟還包括導氣組件，所述導氣組件包括主導氣件和與所述主導氣件連接的多個支導氣件，所述主導氣件內設置所述主導氣道，每個所述支導氣件內設置所述支導氣道；所述主導氣件沿所述支撐件的高度方向設置，多個所述支導氣件沿所述支撐件的高度方向間隔設置，且每個所述支導氣件均沿所述放片位的周向設置；每個所述支導氣件均固定在所述支撐件上，且位于多個所述支撐件和所述連接件圍合成的內部空間，用于承載晶片；所述支導氣件靠近所述放片位的中心的面為弧面，且在所述弧面上沿所述支導氣件的周向間隔設置多個所述出氣口；所述晶舟的所述導氣通道為兩個，所述腔室主體的底部設有兩個進氣通道，以分別通入不同工藝氣體；所述工藝腔室內還設有兩個進氣導管，兩個所述進氣導管分別與兩個所述進氣通道連通，并分別與兩個所述導氣通道的進氣口連通。

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