恭喜大鼎光學薄膜(中山)有限公司閃雷雷獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜大鼎光學薄膜(中山)有限公司申請的專利一種高截止深度濾光片及其制備方法與應用獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115356799B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210914628.7，技術領域涉及：G02B5/28；該發明授權一種高截止深度濾光片及其制備方法與應用是由閃雷雷;朱小康設計研發完成，并于2022-08-01向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種高截止深度濾光片及其制備方法與應用在說明書摘要公布了：本發明公開了一種高截止深度濾光片及其制備方法與應用，涉及濾光片技術領域。該高截止深度濾光片，從上往下依次包括：窄帶濾光膜，基片和高隔離度截止膜。該高截止深度濾光片對通光波段的透過率高，峰值透過率大于95％；截止波段的截止率深，透過率＜2％，能有效地濾除雜散光；通光波段的半帶寬窄，角度效應小，隔離度高、出光功率高，功率衰減小于5％，抗激光損傷閾值高。
本發明授權一種高截止深度濾光片及其制備方法與應用在權利要求書中公布了：1.一種高截止深度濾光片，其特征在于，從上往下依次包括：窄帶濾光膜，基片和高隔離度截止膜；所述窄帶濾光膜包括由第一SiO2膜層和第一Ta2O5膜層依次交替層疊在所述基片的一側表面形成，其中：交替次數為22~26次；直接附著于所述基片上的所述第一SiO2膜層的光學厚度為0.5A~0.6A，其余所述第一SiO2膜層的光學厚度為1A~6A；離所述基片最近的所述第一Ta2O5膜層的厚度為0.7A-0.8A，其余所述第一Ta2O5膜層的光學厚度為1A~3A；所述高隔離度截止膜包括在所述基片的另一側表面依次形成的第二Ta2O5膜層和第二SiO2膜層，其中：交替次數為81次；直接附著于所述基片上的第二Ta2O5膜層的光學厚度為0.2A~0.3A，其余第二Ta2O5膜層的光學厚度為0.4A~1.2A；所述第二SiO2膜層的厚度為0.5A~1.2A；其中，A表示14設計波長。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人大鼎光學薄膜(中山)有限公司，其通訊地址為：528436 廣東省中山市火炬開發區金通街3號通宇科技園B棟1樓之二卡；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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