恭喜珠海基石科技有限公司請求不公布姓名獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜珠?；萍加邢薰?/a>申請的專利抗反射組合物、抗反射膜、圖案化工藝、圖案化基底、半導(dǎo)體器件及其制備方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN119735984B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-23發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202510254560.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C09D133/02；該發(fā)明授權(quán)抗反射組合物、抗反射膜、圖案化工藝、圖案化基底、半導(dǎo)體器件及其制備方法是由請求不公布姓名;請求不公布姓名;請求不公布姓名;請求不公布姓名;請求不公布姓名設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-03-05向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本抗反射組合物、抗反射膜、圖案化工藝、圖案化基底、半導(dǎo)體器件及其制備方法在說明書摘要公布了：本申請?zhí)峁┝艘环N抗反射組合物、抗反射膜、圖案化工藝、圖案化基底、半導(dǎo)體器件及其制備方法，本申請通過兩種酸值不同的有機(jī)溶劑的適量配比，可以獲得酸值較低的抗反射組合物，可降低其制備成本，減少白邊現(xiàn)象，抑制駐波現(xiàn)象，提高其穩(wěn)定性，有利于獲得分辨率高、線寬粗糙度低的圖案，應(yīng)用在半導(dǎo)體器件的制備中，可提高半導(dǎo)體器件的綜合性能。
本發(fā)明授權(quán)抗反射組合物、抗反射膜、圖案化工藝、圖案化基底、半導(dǎo)體器件及其制備方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種抗反射組合物，其特征在于，所述抗反射組合物包括樹脂、熱致產(chǎn)酸劑、交聯(lián)劑和有機(jī)溶劑；所述有機(jī)溶劑包括第一有機(jī)溶劑和第二有機(jī)溶劑，所述第一有機(jī)溶劑的酸值為0.002mgNaOHg-0.056mgNaOHg，所述第二有機(jī)溶劑的酸值小于0.002mgNaOHg，且大于或等于0.0005mgNaOHg；所述有機(jī)溶劑中，所述第一有機(jī)溶劑的質(zhì)量百分比為10%-80%，所述第二有機(jī)溶劑的質(zhì)量百分比為20%-90%；所述抗反射組合物的酸值為0.192mgNaOHg-0.44mgNaOHg。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人珠?；萍加邢薰?/a>，其通訊地址為：519050 廣東省珠海市金灣區(qū)南水鎮(zhèn)南水社區(qū)南港中路18號1棟602室；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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