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龍圖騰網(wǎng)恭喜信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社申請(qǐng)的專利抗蝕劑組成物及圖案形成方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN112782935B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-20發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202011225387.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/004；該發(fā)明授權(quán)抗蝕劑組成物及圖案形成方法是由阿達(dá)鐵平;小林知洋;及川健一;大橋正樹;藤原敬之設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-11-05向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本抗蝕劑組成物及圖案形成方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及抗蝕劑組成物及圖案形成方法。本發(fā)明的課題為提供在以KrF準(zhǔn)分子激光、電子束、極紫外線等高能射線作為光源的光學(xué)光刻中，展現(xiàn)特別良好的掩膜尺寸依存性掩膜誤差系數(shù)：MEF、尺寸均勻性CDU的抗蝕劑組成物以及提供使用該抗蝕劑組成物的圖案形成方法。該課題的解決手段為一種抗蝕劑組成物，其特征為含有：A含有具有酸不穩(wěn)定基團(tuán)的重復(fù)單元，且更含有至少1種具有芳香族取代基的重復(fù)單元的樹脂、B通式B?1表示的光酸產(chǎn)生劑、及C溶劑。式中，W1表示碳數(shù)4～12的含有雜原子的環(huán)狀2價(jià)烴基。W2表示碳數(shù)4～14的不含雜原子的環(huán)狀1價(jià)烴基。Rf為上述通式表示的2價(jià)有機(jī)基團(tuán)。M+表示鎓陽離子。

本發(fā)明授權(quán)抗蝕劑組成物及圖案形成方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種抗蝕劑組成物，其特征為含有：A含有具有酸不穩(wěn)定基團(tuán)的重復(fù)單元，且更含有至少1種具有芳香族取代基的重復(fù)單元的樹脂，該A成分的樹脂中，該具有芳香族取代基的重復(fù)單元中的1種為下式A-1表示的重復(fù)單元，具有酸不穩(wěn)定基團(tuán)的重復(fù)單元不包含下述式a3’表示的重復(fù)單元；B光酸產(chǎn)生劑，所述B光酸產(chǎn)生劑為通式B-1表示的光酸產(chǎn)生劑、和任選的選自式B-2、式B-3、式B-4中的至少1種其它光酸產(chǎn)生劑；C溶劑；及D成分，其是和A成分的樹脂不同的樹脂，且是具有選自于下式D-1、D-2及D-3表示的重復(fù)單元中的至少1種的含氟樹脂； 式中，RA表示氫原子或甲基；R61表示氫原子；R62表示亦可插入雜原子的碳數(shù)1～8的直鏈狀或分支狀或環(huán)狀的烴基；t為1～3的整數(shù)，u為符合u≤5+2s-t的整數(shù)；s為0或1；L1表示單鍵、或-C＝OO-、-C＝ONH-中的任一者； 式中，W1表示碳數(shù)4～12的含有雜原子的環(huán)狀2價(jià)烴基；W2表示碳數(shù)4～14的不含雜原子的環(huán)狀1價(jià)烴基；Rf為上述通式表示的2價(jià)有機(jī)基團(tuán)，A1、A2分別獨(dú)立地表示氫原子或三氟甲基，B1、B2分別獨(dú)立地表示氫原子、氟原子或三氟甲基，*表示和羰基氧基的原子鍵；m表示0～4，n表示0～1的整數(shù)；M+表示鎓陽離子； 其中，R1表示氫原子或甲基； 式B-2中，A1為氫原子或三氟甲基；R21為也可含有氧原子的直鏈狀或分支狀或環(huán)狀的碳數(shù)1～35的1價(jià)烴基、或含氮雜環(huán)基或下式i表示的基團(tuán)；M+為鎓陽離子； 式i中，R31及R32分別獨(dú)立地為氫原子、或也可含有雜原子的直鏈狀或分支狀或環(huán)狀的碳數(shù)1～20的1價(jià)烴基，R31及R32也可相互鍵結(jié)并和它們所鍵結(jié)的氮原子一起形成環(huán)；R33為也可含有雜原子的直鏈狀或分支狀或環(huán)狀的碳數(shù)1～20的2價(jià)烴基；式B-3中，A2為氫原子或三氟甲基；R22、R23及R24分別獨(dú)立地為氫原子、或也可含有雜原子的直鏈狀或分支狀或環(huán)狀的碳數(shù)1～20的1價(jià)烴基；p及q分別獨(dú)立地為0～5的整數(shù)；r為0～4的整數(shù)；L為單鍵、醚基、或也可含有雜原子的直鏈狀或分支狀或環(huán)狀的碳數(shù)1～20的2價(jià)烴基；式B-4中，A3及A4分別獨(dú)立地為氫原子或三氟甲基，且不會(huì)同時(shí)為氫原子；R25為也可含有氧原子的直鏈狀或分支狀或環(huán)狀的碳數(shù)1～35的1價(jià)烴基、或含氮雜環(huán)基或前述式i表示的基團(tuán)；M+表示鎓陽離子；其中，M+表示的鎓陽離子為選自于如下所示者中的至少1種： 式中，RA分別獨(dú)立地為氫原子或甲基；R51及R52分別獨(dú)立地為氫原子、或直鏈狀或分支狀或環(huán)狀的碳數(shù)1～10的1價(jià)烴基；R53為單鍵、或直鏈狀或分支狀的碳數(shù)1～5的2價(jià)烴基；R54、R55及R56分別獨(dú)立地為氫原子、或直鏈狀或分支狀或環(huán)狀的碳數(shù)1～15的1價(jià)烴基、氟化1價(jià)烴基或酰基、或酸不穩(wěn)定基團(tuán)；R54、R55及R56為1價(jià)烴基或氟化1價(jià)烴基時(shí)，它們的一部分碳原子也可經(jīng)醚基或羰基取代；R57為直鏈狀或分支狀或環(huán)狀的碳數(shù)1～20的v+1價(jià)的烴基或氟化烴基；v為1～3的整數(shù)。

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