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龍圖騰網恭喜上海微電子裝備(集團)股份有限公司申請的專利調焦調平裝置、光刻機系統及離焦量的測量方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114675497B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-20發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202011565072.2，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權調焦調平裝置、光刻機系統及離焦量的測量方法是由程于水;徐榮偉;莊亞政;孫建超設計研發完成，并于2020-12-25向國家知識產權局提交的專利申請。

本調焦調平裝置、光刻機系統及離焦量的測量方法在說明書摘要公布了：本發明提供一種調焦調平裝置、光刻機系統以及離焦量的測量方法，其中，所述光照單元提供的檢測光斑經所述投影單元投影至一待測面上，并經待測面反射形成反射光斑并投射至所述探測單元。所述探測狹縫包括透光區和反射區。反射光斑經透光區形成第一光斑，所述第一探測器獲取第一光斑的功率；反射光斑經反射區形成第二光斑，所述第二探測器獲取第二光斑的功率。所述數據處理單元根據所述第一光斑的功率和所述第二光斑的功率計算出所述待測面的離焦量。因此，本發明通過設置透光區和反射區，以分別獲取第一光斑和第二光斑的功率，進而計算出離焦量，避免擺動掃描反射鏡，減少噪聲干擾，提高探測信號的信噪比以及離焦量的測量精度。

本發明授權調焦調平裝置、光刻機系統及離焦量的測量方法在權利要求書中公布了：1.一種調焦調平裝置，其特征在于，所述調焦調平裝置包括：光照單元、投影單元、探測單元以及數據處理單元；其中，所述光照單元用于提供檢測光斑；所述投影單元用于將所述檢測光斑投影至一待測面上，并經所述待測面反射形成反射光斑并投射至所述探測單元；所述探測單元包括探測狹縫、第一探測器和第二探測器；所述探測狹縫包括透光區和反射區；所述反射光斑經所述透光區形成第一光斑，所述第一光斑傳輸至所述第一探測器；并且，所述反射光斑經所述反射區形成第二光斑，所述第二光斑傳輸至所述第二探測器；所述第一探測器獲取所述第一光斑的功率，所述第二探測器獲取所述第二光斑的功率；所述數據處理單元根據所述第一光斑的功率和所述第二光斑的功率得到所述待測面的離焦量。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人上海微電子裝備(集團)股份有限公司，其通訊地址為：201203 上海市浦東新區張東路1525號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。