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龍圖騰網恭喜中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司申請的專利光學臨近修正、光掩模版制作及圖形化方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112241102B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-20發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201910655742.0，技術領域涉及：G03F1/36；該發明授權光學臨近修正、光掩模版制作及圖形化方法是由杜杳雋;李亮設計研發完成，并于2019-07-19向國家知識產權局提交的專利申請。

本光學臨近修正、光掩模版制作及圖形化方法在說明書摘要公布了：一種光學臨近修正、光掩模版制作及圖形化方法，其中光學臨近修正方法包括：提供目標圖形；增大目標圖形的邊長，形成初始圖形；對初始圖形進行修正，獲得對應的第一修正圖形；形成輔助圖形，輔助圖形包圍第一修正圖形；將第一修正圖形和輔助圖形進行差異因子比較；如果差異因子的值大于預定閾值，增大所第一修正圖形對應的目標圖形的面積，形成修正目標圖形；對第一修正圖形進行過程修正，獲取對應的過程修正圖形；重復上述進行差異因子比較的步驟，直至修正滿足的預定次數；對形成的第一修正圖形和過程修正圖形進行最終修正，獲取修正圖形。本發明保證光刻圖形轉移到晶圓上的準確性，保證形成的半導體器件能夠達到設計的尺寸要求。

本發明授權光學臨近修正、光掩模版制作及圖形化方法在權利要求書中公布了：1.一種光學臨近修正方法，其特征在于，包括：提供目標圖形；增大所述目標圖形的邊長，形成初始圖形；對所述初始圖形進行修正，獲得對應的第一修正圖形；形成輔助圖形，所述輔助圖形包圍所述第一修正圖形；將所述第一修正圖形和所述輔助圖形進行差異因子比較，所述輔助圖形的面積為S1，所述第一修正圖形的面積為S0，所述差異因子=（S1-S0）S1*100%；如果差異因子小于或者等于預定閾值，所述第一修正圖形不變；如果差異因子的值大于預定閾值，增大所述第一修正圖形對應的所述目標圖形的面積，形成修正目標圖形，對所述第一修正圖形進行過程修正，獲取對應的過程修正圖形，具體為：獲取所述第一修正圖形對應的第一曝光圖形；比較所述第一曝光圖形與所述修正目標圖形在采樣點的位置差異，獲取所述第一曝光圖形的邊緣位置誤差值；當獲取所述第一曝光圖形的邊緣位置誤差值與設定的邊緣位置誤差閾值的比值位于預定范圍時，獲取對應的過程修正圖形；重復上述進行差異因子比較的步驟，直至修正滿足的預定次數；對上述通過差異因子比較分別獲得的第一修正圖形和過程修正圖形進行最終修正，獲取修正圖形，具體為：獲得所述第一修正圖形的第一曝光圖形，獲得所述過程修正圖形的過程曝光圖形；分別獲得所述第一曝光圖形的邊緣位置誤差和獲得所述過程曝光圖形的邊緣位置誤差；當所述第一曝光圖形與所述過程曝光圖形的邊緣位置誤差值小于或者等于設定的邊緣位置誤差閾值，獲取所述修正圖形。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司，其通訊地址為：201203 上海市浦東新區張江路18號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。