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恭喜圓益IPS股份有限公司金禹賢獲國(guó)家專利權(quán)

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龍圖騰網(wǎng)恭喜圓益IPS股份有限公司申請(qǐng)的專利感應(yīng)耦合等離子體處理裝置獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN115312367B

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-20發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202111494169.3,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01J37/32;該發(fā)明授權(quán)感應(yīng)耦合等離子體處理裝置是由金禹賢;劉光鐘;盧德熙;奇洞鉉;金榮必;金正洙;韓昌勛;金大一;俞道亨設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2021-12-08向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

感應(yīng)耦合等離子體處理裝置在說(shuō)明書(shū)摘要公布了:本發(fā)明公開(kāi)一種感應(yīng)耦合等離子體處理裝置,包括:腔室主體,平面形狀具有直角四邊形形狀,并且在上側(cè)形成有開(kāi)口部;窗口組件,包括覆蓋所述開(kāi)口部以與所述腔室主體一同形成處理空間的一個(gè)以上的窗口和支撐所述窗口的支撐架;基板支撐部,設(shè)置在所述腔室主體,并支撐直角四邊形的基板;氣體噴射部,向所述處理空間噴射氣體;天線部,在所述窗口組件的上部中設(shè)置在與所述基板的直角四邊形形狀相對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)直角四邊形區(qū)域,以在所述處理空間形成感應(yīng)電場(chǎng)。所述天線部包括:4個(gè)角落天線組,與所述基準(zhǔn)直角四邊形區(qū)域的頂點(diǎn)相鄰配置,以控制角落部分的等離子體密度;側(cè)方天線組,與所述基準(zhǔn)直角四邊形區(qū)域的邊及所述4個(gè)角落天線組間隔間距配置。

本發(fā)明授權(quán)感應(yīng)耦合等離子體處理裝置在權(quán)利要求書(shū)中公布了:1.一種感應(yīng)耦合等離子體處理裝置,包括:腔室主體100,平面形狀具有直角四邊形形狀,并且在上側(cè)形成有開(kāi)口部;窗口組件200,包括一個(gè)以上的窗口210和支撐架220,所述一個(gè)以上的窗口210覆蓋所述開(kāi)口部以與所述腔室主體100一同形成處理空間S,所述支撐架220支撐所述窗口210;基板支撐部300,設(shè)置在所述腔室主體100,并支撐直角四邊形的基板10;氣體噴射部,向所述處理空間S噴射氣體;天線部500,在所述窗口組件200的上部中設(shè)置在與所述基板10的直角四邊形形狀相對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)直角四邊形區(qū)域,以在所述處理空間S形成感應(yīng)電場(chǎng);其中,所述天線部500包括:4個(gè)角落天線組700,與所述基準(zhǔn)直角四邊形區(qū)域的頂點(diǎn)相鄰配置,以控制角落部分的等離子體密度;側(cè)方天線組510,與所述基準(zhǔn)直角四邊形區(qū)域的邊及所述4個(gè)角落天線組700間隔間距配置,從上側(cè)俯視所述側(cè)方天線組510時(shí),在所述基板10的直角四邊形中除了頂點(diǎn)以外的邊中具有一個(gè)以上的直線部分,在與所述角落部分相向的部分中具有一個(gè)以上的側(cè)方斜線部分,所述角落天線組700在與所述側(cè)方天線組510相鄰的部分中具有與所述側(cè)方天線組510的所述側(cè)方斜線部分相互平行的角落斜線部分,在所述角落斜線部分和所述側(cè)方斜線部分中的電流方向相同。

如需購(gòu)買(mǎi)、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人圓益IPS股份有限公司,其通訊地址為:韓國(guó)京畿道平澤市振威面振威產(chǎn)團(tuán)路75;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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