恭喜應用材料公司梁奇偉獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜應用材料公司申請的專利等離子體反應器、等離子體處理工件的方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115954255B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-16發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202310064701.0,技術領域涉及:H01J37/32;該發明授權等離子體反應器、等離子體處理工件的方法是由梁奇偉;斯里尼瓦斯·D·內曼尼設計研發完成,并于2018-05-25向國家知識產權局提交的專利申請。
本等離子體反應器、等離子體處理工件的方法在說明書摘要公布了:等離子體反應器包括腔室主體、氣體分配口、工件支撐件、天線陣列、和AC功率源,腔室主體具有提供等離子體腔室的內部空間,氣體分配口用于將處理氣體輸送到等離子體腔室,工件支撐件用于保持工件,天線陣列包括部分延伸到等離子體腔室中的多個單極天線,AC功率源用于將第一AC功率供應到多個單極天線。
本發明授權等離子體反應器、等離子體處理工件的方法在權利要求書中公布了:1.一種等離子體反應器,包括:腔室主體,所述腔室主體具有提供等離子體腔室的內部空間,所述腔室主體包括板部分,所述板部分提供所述等離子體腔室的頂板;氣體分配口,所述氣體分配口用于將處理氣體輸送到所述等離子體腔室;工件支撐件,所述工件支撐件用于保持工件;天線陣列,所述天線陣列包括多個單極天線,所述多個單極天線平行地延伸穿過所述板部分并且從所述頂板部分地延伸到所述等離子體腔室中;和AC功率源,所述AC功率源用于將第一AC功率供應到所述多個單極天線,以在所述等離子體腔室中產生等離子體。
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