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龍圖騰網(wǎng)恭喜常熟東威科技有限公司申請的專利一種開放式滾筒及工件處理裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN111155164B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-16發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：201911396005.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C25D17/22；該發(fā)明授權(quán)一種開放式滾筒及工件處理裝置是由方志斌設(shè)計研發(fā)完成，并于2019-12-30向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種開放式滾筒及工件處理裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種開放式滾筒及工件處理裝置，開放式滾筒包括開放筒體和導(dǎo)電組件；工件處理裝置包括開放式滾筒。導(dǎo)電組件與電源導(dǎo)通，且導(dǎo)電組件的一端可旋轉(zhuǎn)地連接在轉(zhuǎn)動組件上，另一端可延伸入開放筒體的內(nèi)部或置于開放筒體外部。此結(jié)構(gòu)的開放式滾筒電鍍時，滾筒內(nèi)的工件較少、分布零散時，即使?jié)L筒中間部分的工件翻滾時無法接觸到兩側(cè)的陰極導(dǎo)電軸導(dǎo)電，由于導(dǎo)電組件的另一端伸入容納內(nèi)腔中，增大了中間部分的工件與陰極的接觸面積與接觸幾率，提高工件較少時的電鍍品質(zhì)；同時也不會導(dǎo)致電鍍液中陽離子大量損耗，節(jié)約成本；導(dǎo)電組件隨滾筒轉(zhuǎn)動時不隨滾筒同步沿周向轉(zhuǎn)動，導(dǎo)電組件不易與工件纏繞在一起，避免損壞導(dǎo)電組件或工件。

本發(fā)明授權(quán)一種開放式滾筒及工件處理裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種開放式滾筒，其特征在于，包括開放筒體，所述開放筒體包括傳動帶11以及驅(qū)動所述傳動帶11轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動組件，所述傳動帶11繞設(shè)于所述轉(zhuǎn)動組件外側(cè)并形成具有敞開口并凹陷的容納內(nèi)腔；以及導(dǎo)電組件，其與電源導(dǎo)通，且所述導(dǎo)電組件的一端可旋轉(zhuǎn)地連接在所述轉(zhuǎn)動組件上，另一端可延伸入所述開放筒體的內(nèi)部或置于所述開放筒體外部；所述轉(zhuǎn)動組件包括主動軸121和被動軸122，所述傳動帶11呈閉合環(huán)且繞設(shè)于所述主動軸121和所述被動軸122上，所述導(dǎo)電組件的一端與所述主動軸121轉(zhuǎn)動連接；所述開放筒體還包括導(dǎo)電盤3，所述導(dǎo)電盤3設(shè)于所述主動軸121和所述被動軸122之間，且所述傳動帶11的端部側(cè)面繞設(shè)在所述導(dǎo)電盤3上，所述導(dǎo)電盤3適于從電源引電。

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